[發(fā)明專利]一種依非巴特的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210025197.5
• 申請(qǐng)日: 2012-02-06
• 公開（公告）號(hào): CN102584944A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 文永均;祝傳斌;王曉莉;韓玉;童光彬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都圣諾科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): C07K7/06
• 分類號(hào): C07K7/06;C07K1/06;C07K1/04;C07K1/107
• 代理公司: 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所 51124
• 代理人: 武森濤

1.一種依非巴特的制備方法，包括固相多肽合成法制備依非巴特樹脂、依非巴特樹脂酸解得到依非巴特線性肽粗品、經(jīng)氧化后得到依非巴特粗品，再經(jīng)純化和換鹽得到依非巴特成品，其中固相多肽合成法制備依非巴特樹脂的方法為：在氨基樹脂上通過(guò)固相偶聯(lián)合成法依次接入下列序列中相對(duì)應(yīng)的保護(hù)氨基酸或片段，得到依非巴特樹脂：

X-Y-Trp(R₁)-Pro-Cys(R₂)-氨基樹脂

其中，

R₁為Boc或H；

R₂為Trt或Acm；

X為Mpr(R₂)-Harg(R₃)，R₃為Pbf或H；

Y為Gly-Asp(OtBu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：接入X片段時(shí)，僅用1次固相偶聯(lián)合成反應(yīng)，偶聯(lián)所使用的Fmoc-保護(hù)氨基酸或片段為Mpr(Trt)-Harg(R₃)-OH，R₃為Pbf或H。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：接入Y片段時(shí)，

1)分1次偶聯(lián)直接接入，F(xiàn)moc-保護(hù)氨基酸或片段為Fmoc-Gly-Asp(OtBu)-OH；或

2)分2次偶聯(lián)依次接入，F(xiàn)moc-保護(hù)氨基酸或片段為：第一次為Fmoc-Asp(OtBu)-OH、第二次為Fmoc-Gly-OH。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：接入X和Y以外的其它的保護(hù)氨基酸分別為：Fmoc-Trp(R₁)-OH，R₁為Boc或H；Fmoc-Pro-OH；Fmoc-Cys(R₂)-OH，R₂為Trt或Acm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：接入各個(gè)氨基酸片段時(shí)，保護(hù)氨基酸的用量為載體樹脂總摩爾數(shù)的1.2～6倍，優(yōu)選3倍。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：所述氨基樹脂取代值為0.3～1.5mmol/g樹脂，優(yōu)選的Fmoc-Leu-取代值為0.5～1.0mmol/g樹脂。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：所述氨基樹脂選自RinkAmide樹脂、Rink?Amide?AM樹脂、Rink?MBHA樹脂和Sieber樹脂中的一種，優(yōu)選為RinkAmide?MBHA樹脂。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：所述固相偶聯(lián)合成法是：前一步反應(yīng)得到的保護(hù)氨基酸-樹脂脫去保護(hù)Fmoc后再與下一個(gè)保護(hù)氨基酸偶聯(lián)反應(yīng)，偶聯(lián)反應(yīng)時(shí)間為60～300分鐘，優(yōu)選的為100～140分鐘。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：依非巴特樹脂經(jīng)酸解同時(shí)脫去樹脂及側(cè)鏈保護(hù)基得到依非巴特線性肽粗品：

Mpr-Harg-Gly-Asp-Trp-Pro-Cys-NH₂。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：依非巴特樹脂酸解時(shí)采用的酸解劑為三氟醋酸(TFA)、1，2-乙二硫醇(EDT)和水混合溶劑，混合溶劑的配比為：TFA的比列為80-95％(V/V)，EDT的比例為1～10％(V/V)，余量為水。

11.根據(jù)權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述的依非巴特的制備方法，其特征在于：依非巴特線性肽粗品氧化后得到依非巴特粗品時(shí)，依非巴特線性肽先用醋酸溶解，過(guò)濾后用氧化劑氧化環(huán)化，依非巴特線性肽結(jié)構(gòu)中的Mpr中的巰基SH和Cys中的SH經(jīng)氧化形成二硫鍵S-S而得到所述氧化劑為碘、H₂0₂或DMSO中的至少一種。