[發明專利]保證膜層沉積質量的方法、膜層沉積設備的每日監控方法有效
| 申請號： | 201210024584.7 | 申請日： | 2012-02-03 |
| 公開（公告）號： | CN102560405A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 趙高輝;李春雷;牟善勇;張永剛 | 申請（專利權）人： | 上海宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/54 | 分類號： | C23C14/54;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 駱蘇華 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 保證 沉積 質量 方法 設備 每日 監控 | ||
1.一種保證膜層沉積質量的方法，其特征在于，包括每天進行對膜層沉積設備進行氣密性檢測的步驟；其中，所述氣密性檢測的步驟包括：
對所述膜層沉積設備進行抽真空；
抽真空結束后的給定時間段內，使所述膜層沉積設備處于氣密狀態，檢測膜層沉積設備的氣壓變化狀況，記錄下該時間段內的氣壓最大值；
若所述氣壓最大值大于預定值，則將所述膜層沉積設備歸為需維修設備。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述膜層沉積設備為CVD設備或PVD設備。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述給定時間段為60秒。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述預定值根據經驗或實驗設定。
5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述保證膜層沉積質量的方法另包括：
將根據氣密性檢測步驟獲得的每日的氣壓最大值制作成圖表。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，若連續兩天的檢測得的氣壓最大值均大于所述預定值的80％，則將所述膜層沉積設備歸為需重點監控設備。
7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述氣密性檢測的步驟在日常的Daily?Monitor步驟中進行。
8.一種膜層沉積設備的每日監控方法，所述每日監控方法在每天的正式量產前進行，其利用空白晶片在膜層沉積設備中進行試生產以驗證效果，其特征在于，所述每日監控方法包括對膜層沉積設備進行氣密性檢測的步驟，所述氣密性檢測的步驟包括：
對所述膜層沉積設備進行抽真空；
抽真空結束后的給定時間段內，使所述膜層沉積設備處于氣密狀態，檢測膜層沉積設備的氣壓變化狀況，記錄下該時間段內的氣壓最大值；
若所述氣壓最大值大于預定值，則將所述膜層沉積設備歸為需維修設備。
9.如權利要求8所述的每日監控方法，其特征在于，所述膜層沉積設備為CVD設備。
10.如權利要求8所述的每日監控方法，其特征在于，所述給定時間段為60秒。
11.如權利要求8所述的每日監控方法，其特征在于，所述預定值根據經驗或實驗設定。
12.如權利要求8所述的每日監控方法，其特征在于，所述氣密性檢測的步驟另包括：
將根據氣密性檢測步驟獲得的每日的氣壓最大值制作成圖表。
13.如權利要求8所述的每日監控方法，其特征在于，所述氣密性檢測的步驟另包括：
若連續兩天的檢測得的氣壓最大值均大于所述預定值的80％，則將所述膜層沉積設備歸為需重點監控設備。
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