[發(fā)明專利]一種印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210023805.9
• 申請(qǐng)日: 2012-02-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102560499A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何世武;吳超;王大定;崔磊;李建光;李明軍;王丹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山市潔馳環(huán)保科技發(fā)展有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23F1/46
• 分類(lèi)號(hào): C23F1/46
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 曹毅

1.一種印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，該酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置包括蝕刻廢液儲(chǔ)存槽（1）、復(fù)合隔膜電解槽（2）、蝕刻液溢流槽（3）、射流吸收槽（4）、射流器（5）、管道（6）和廢液泵（7），所述復(fù)合隔膜電解槽（2）通過(guò)復(fù)合隔膜分為陰極室（2.1）和陽(yáng)極室（2.2）：

所述蝕刻廢液儲(chǔ)存槽（1）與陰極室（2.1）相連并與生產(chǎn)線蝕刻缸（8）相通；

所述蝕刻液溢流槽（3）與陽(yáng)極室（2.2）相連，并通過(guò)管道（6）和廢液泵（7）與生產(chǎn)線蝕刻缸（8）相通；

所述射流器（5）的進(jìn)氣口與所述陽(yáng)極室（2.2）的排氣口相連，所述射流吸收槽（4）與射流器（5）相連并與生產(chǎn)線蝕刻缸（8）相通并循環(huán)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述蝕刻廢液儲(chǔ)存槽（1）、復(fù)合隔膜電解槽（2）、蝕刻液溢流槽（3）、射流吸收槽（4）、射流器（5）和生產(chǎn)線蝕刻缸（8）之間通過(guò)管道（6）和廢液泵（7）相連。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述陰極室（2.1）內(nèi)放有無(wú)涂層金屬鈦板，并與直流電源的負(fù)極相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述陽(yáng)極室（2.2）內(nèi)放有涂有釕、銠、銥等貴金屬涂層的導(dǎo)電鈦陽(yáng)極板，并與直流電源的正極相連。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述復(fù)合隔膜電解槽（2）內(nèi)可分成若干個(gè)陰極室（2.1）和陽(yáng)極室（2.2），也可是多個(gè)復(fù)合隔膜電解槽（2）并聯(lián)或串聯(lián)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述射流器（5）的進(jìn)水口與射流吸收槽（4）的底部相連，射流器（5）的出水口與射流吸收槽（4）的頂部相連。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置還包含廢氣處理裝置，該廢氣處理裝置分別和陰極室（2.1）、蝕刻液溢流槽（3）和射流吸收槽（4）的頂部排氣口相連通。

8.?根據(jù)權(quán)利要求7所述的印制線路板酸性蝕刻液循環(huán)再生裝置，其特征在于，所述廢氣處理裝置還包括堿液噴淋裝置。