[發明專利]陰影掩膜及其補償設計方法

無效

• 申請號: 201210021076.3
• 申請日: 2012-01-30
• 公開（公告）號: CN103225059A
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: 朱啟寶;姜義堂;陳思孝;楊冠懿;陳冠州;李宜憓;溫晉達
• 申請（專利權）人: 群康科技(深圳)有限公司;奇美電子股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 任默聞

1.一種陰影掩膜的補償設計方法，其特征在于，所述的方法包括：

設置一第一陰影掩膜于一基板上，該第一陰影掩膜具有一第一實體圖案以及與該第一實體圖案互補的一第一開口圖案，該第一實體圖案遮蔽該基板的一第一預定鍍膜開口區，該第一預定鍍膜開口區具有在一軸上相對的一第一側與一第二側；

以該第一陰影掩膜為遮罩進行一沉積工藝，以于該基板上形成一鍍膜，該鍍膜具有一位于該第一實體圖案下方的第一開口，其中該第一開口具有在該軸上相對的一第三側與一第四側，該第一側與該第三側相鄰，該第二側與該第四側相鄰，

其中該第三側相對于該第一側的距離差為一第一偏差，該第二側相對于該第四側的距離差為一第二偏差，該第一開口相對于該第一預定鍍膜開口區的一第一單側擴散距離為該第一偏差與該第二偏差之和的二分之一；以及

依照該第一單側擴散距離設計一相似但不同于該第一陰影掩膜的第二陰影掩膜，該第二陰影掩膜具有一第二實體圖案以及與該第二實體圖案互補的一第二開口圖案，其中該第二開口圖案的大小不同于該第一開口圖案。

2.如權利要求1所述的陰影掩膜的補償設計方法，其特征在于，該第二開口圖案相對于該第一開口圖案內縮該第一單側擴散距離。

3.如權利要求1所述的陰影掩膜的補償設計方法，其特征在于，該第二開口圖案的形狀不同于該第一開口圖案的形狀。

4.如權利要求1所述的陰影掩膜的補償設計方法，其特征在于，該第一開口相對于該第一預定鍍膜開口區的一第一鍍膜偏移距離為該第一偏差與該第二偏差之差的二分之一，其中該第一陰影掩膜的該第一實體圖案更包含位于一側的一第一邊緣圖案，該第一邊緣圖案遮蔽該基板的一第二預定鍍膜開口區，該第二預定鍍膜開口區具有在該軸上鄰近第一預定鍍膜開口區的一第五側，

該鍍膜更具有位于該第一邊緣圖案下方的一第二開口，其中該第二開口具有在該軸上鄰近該第五側的一第六側，

其中該第五側相對于該第六側的距離差為一第三偏差，該第二開口相對于該第二預定鍍膜開口區的一第二單側擴散距離為該第三偏差與該第一鍍膜偏移距離的和，

該第二陰影掩膜的該第二實體圖案更包括一第三邊緣圖案，該第二開口圖案與該第二實體圖案相鄰的部分相對于該第一開口圖案內縮該第一單側擴散距離，該第二開口圖案與該第二邊緣圖案相鄰的部分相對于該第一開口圖案內縮該第二單側擴散距離。

5.如權利要求4所述的陰影掩膜的補償設計方法，其特征在于，該第一陰影掩膜的該第一實體圖案更包含位于另一側的一第三邊緣圖案，該第三邊緣圖案遮蔽該基板的一第三預定鍍膜開口區，該第三預定鍍膜開口區具有在該軸上鄰近第一預定鍍膜開口區的一第七側，

該鍍膜更具有位于該第三邊緣圖案下方的一第三開口，其中該第三開口具有在該軸上鄰近該第七側的一第八側，

其中該第八側相對于該第七側的距離差為一第四偏差，該第三開口相對于該第三預定鍍膜開口區的一第三單側擴散距離為該第四偏差與該第一鍍膜偏移距離的差，

該第二陰影掩膜的該第二實體圖案更包括一第四邊緣圖案，該第二開口圖案與該第四邊緣圖案相鄰的部分相對于該第一開口圖案內縮該第三單側擴散距離。

6.一種陰影掩膜，其特征在于，所述的陰影掩膜包括：一實體圖案以及一與該實體圖案互補的開口圖案，其中該實體圖案包括呈陣列排列的多個圖案單元，所述圖案單元至少包括一第一圖案單元與一第二圖案單元，該第一圖案單元具有一第一基本圖案以及一自該第一基本圖案的邊緣沿一軸朝向該開口圖案延伸的第一補償圖案，該第二圖案單元具有一第二基本圖案以及一自該第二基本圖案的邊緣沿該軸朝向該開口圖案延伸的第二補償圖案，其中該第一基本圖案與該第二基本圖案的形狀與大小皆相同，該第一補償圖案的延伸距離不等于該第二補償圖案的延伸距離。

7.如權利要求6所述的陰影掩膜，其特征在于，所述圖案單元更包括一第三圖案單元，該第三圖案單元具有一第三基本圖案以及一自該第三基本圖案的邊緣沿該軸朝向該開口圖案延伸的第三補償圖案，該第一基本圖案、該第二基本圖案與該第三基本圖案的形狀與大小皆相同，該第三基本圖案與該第二基本圖案相連，該第一補償圖案的延伸距離、該第二補償圖案的延伸距離、與該第三補償圖案的延伸距離皆不相等。