[發明專利]用于對準或重疊的標記結構，限定它的掩模圖案及使用該掩模圖案的光刻投影裝置

無效

• 申請號: 201210020887.1
• 申請日: 2004-07-12
• 公開（公告）號: CN102520594A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: J·M·芬德斯;M·杜薩;R·J·F·范哈倫;L·A·C·S·科里納;E·H·J·亨德里克西;G·范登伯赫;A·H·M·范德霍夫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G03F1/42
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

本申請是申請日為2004年7月12日、申請號為200410063495.9、發明名稱為“用于對準或重疊的標記結構，限定它的掩模圖案及使用該掩模圖案的光刻投影裝置”的專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種如權利要求1前序部分限定的用于對準或重疊的掩模圖案。此外，本發明涉及一種由這種掩模圖案形成的標記結構。此外，本發明涉及一種使用標記結構的光刻投影裝置。

背景技術

本發明發現一種在光刻投影裝置領域的應用，該光刻投影裝置包括用于提供輻射投射光束的輻射系統，用于支撐構圖部件的支撐結構，所述構圖部件用于根據所需的圖案對投射光束進行構圖，用于保持基底的基底臺；以及用于將帶圖案的光束投影到基底的目標部分上的投射系統。

術語“構圖部件”應廣義地解釋為能夠給入射的輻射光束賦予帶圖案的截面的裝置，其中所述圖案與要在基底的目標部分上形成的圖案一致；本文中也使用術語“光閥”。一般地，所述圖案與在目標部分中形成的器件如集成電路或者其它器件的特定功能層相對應(如下文)。這種構圖部件的示例包括：

-掩模。掩模的概念在光刻中是公知的。它包括如二進制型、交替相移型、和衰減相移型的掩模類型，以及各種混合掩模類型。這種掩模在輻射光束中的布置使入射到掩模上的輻射能夠根據掩模上的圖案而選擇性地被透射(在透射掩模的情況下)或者被反射(在反射掩模的情況下)。在使用掩模的情況下，支撐結構一般是一個掩模臺，它能夠保證掩模被保持在入射輻射光束中的所需位置，并且如果需要該臺會相對光束移動。

-可編程反射鏡陣列。這種設備的一個例子是具有一粘彈性控制層和一反射表面的矩陣可尋址表面。這種裝置的基本原理是(例如)反射表面的已尋址區域將入射光反射為衍射光，而未尋址區域將入射光反射為非衍射光。用一個適當的濾光器，從反射的光束中濾除所述非衍射光，只保留衍射光；按照這種方式，光束根據矩陣可尋址表面的定址圖案而產生圖案。可編程反射鏡陣列的另一實施例利用微小反射鏡的矩陣排列，通過使用適當的局部電場，或者通過使用壓電致動器裝置，使得每個反射鏡能夠獨立地關于一軸傾斜。再者，反射鏡是矩陣可尋址的，由此已尋址反射鏡以與未尋址反射鏡不同的方向將入射的輻射光束反射；按照這種方式，根據矩陣可尋址反射鏡的定址圖案對反射光束進行構圖。可以用適當的電子裝置進行該所需的矩陣定址。在上面描述的兩種情況中，構圖部件可以包括一個或多個可編程反射鏡陣列。這里提及的有關反射鏡陣列的更多信息可以從例如美國專利US5,296,891和US5,523,193，以及PCT專利申請WO98/38597和WO98/33096中獲得，這些文獻在這里引入作為參照。在使用可編程反射鏡陣列的情況下，所述支撐結構可以體現為例如框架或者工作臺，所述支撐結構根據需要可以是固定的或者是可移動的；以及

-可編程LCD陣列。在美國專利US?5,229,872中給出了一個這種結構的實例，它在這里引入作為參照。如上所述，在這種情況下支撐結構可以體現為例如框架或者工作臺，所述結構根據需要可以是固定的或者是可移動的。

為簡單起見，本文的其余部分在一定的情況下具體以掩模和掩模臺為例；可是，在這樣的例子中所討論的一般原理應適用于上述更寬范圍的構圖部件。

光刻投影裝置可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構圖部件可產生對應于IC一個單獨層的電路圖案，該圖案可以成像在已涂敷輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(硅晶片)的目標部分上(例如包括一個或者多個管芯(die))。一般地，單一的晶片將包含相鄰目標部分的整個網格，該相鄰目標部分由投影系統逐個相繼輻射。在目前采用掩模臺上的掩模進行構圖的裝置中，有兩種不同類型的機器。一類光刻投影裝置是，通過將全部掩模圖案一次曝光在目標部分上而輻射每一目標部分；這種裝置通常稱作晶片步進器或步進-重復裝置。另一種裝置(通常稱作步進-掃描裝置)通過在投射光束下沿給定的參考方向(“掃描”方向)依次掃描掩模圖案、并同時沿與該方向平行或者反平行的方向同步掃描基底臺來輻射每一目標部分；因為一般來說，投影系統有一個放大系數M(通常＜1)，因此對基底臺的掃描速度V是對掩模臺掃描速度的M倍。關于如這里描述的光刻設備的更多信息可以從例如美國專利US6,046,792中獲得，該文獻這里作為參考引入。