[發明專利]用于對準或重疊的標記結構，限定它的掩模圖案及使用該掩模圖案的光刻投影裝置

無效

• 申請號: 201210020887.1
• 申請日: 2004-07-12
• 公開（公告）號: CN102520594A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: J·M·芬德斯;M·杜薩;R·J·F·范哈倫;L·A·C·S·科里納;E·H·J·亨德里克西;G·范登伯赫;A·H·M·范德霍夫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G03F1/42
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.在光刻投影中用于將標記結構成像在基底上的掩模圖案，該標記結構在使用中布置成用于確定光學對準或重疊，該掩模圖案包括組成部分以限定標記結構，該組成部分被分成多個分段元件(EL；ML)，每個分段元件大體上具有器件特征的尺寸，

該掩模圖案包括用于每個分段元件(EL；ML)的部段形狀，

其特征在于

用于標記結構的掩模圖案包括至少一個位于部段形狀的臨界部分的輔助特征(EL_sub)，用于平衡在光刻投影中在臨界部分處產生的光學像差或者光學限制，該至少一個輔助特征(EL_sub)具有大體上小于光刻投影的分辨率的尺寸。

2.如權利要求1所述的掩模圖案，其中至少一個輔助特征(EL_sub)限定為位于矩形部段(EL)的臨界拐角附近的塊狀部段。

3.如權利要求1或2所述的掩模圖案，其中至少一個輔助特征(EL_sub)限定為許多線狀部段(EL)的臨界外側邊緣附近的線狀部段。

4.在光刻投影中用于將標記結構成像在基底上的掩模圖案，該標記結構在使用中布置成用于確定光學對準或重疊，該掩模圖案包括組成部分以限定標記結構，該組成部分被分成多個分段元件(EL)，每個分段元件大體上具有器件特征的尺寸，該掩模圖案包括用于每個分段元件(EL)的部段形狀，

該光刻投影包括：

-提供輻射投射光束；

-用于將投射光束作為帶圖案光束構圖的掩模圖案；

-通過投影系統為帶圖案光束投影照明模式以照明基底的目標部分，該投影系統具有用于在小孔部分中接受帶圖案光束的小孔(AO)；

其特征在于

用于標記結構的掩模圖案包括多個隔離元件，這種隔離使得被投影的帶圖案光束大體上填充(fil)投影系統的小孔(AO)。

5.一種由前面任何一個權利要求所述的掩模圖案產生的標記結構。

6.一種光刻投影裝置，包括：

-用于提供輻射投射光束的輻射系統；

-用于支撐構圖部件的支撐結構；

-用于保持基底的基底臺(WS)；

-用于將帶圖案的光束投射到基底的目標部分上的投影系統；

-在光刻處理過程中布置成用于確定光學對準或重疊的基底對準或重疊系統；

-包括至少一個標記結構的基底，通過使用如權利要求1-5中的任何一項所述的掩模圖案形成該標記結構。

7.提供一種在光刻投影裝置中用于光學對準或重疊的標記結構的方法，包括：

-用于提供輻射投射光束的輻射系統；

-用于支撐構圖部件的支撐結構；

-用于保持基底的基底臺(WS)；

-用于投影的投影系統；以及

-在光刻處理過程中布置成用于確定光學對準或重疊的基底對準或重疊系統；

該方法包括將輻射投射光束引導通過構圖部件，經過投影系統到達基底的目標部分，其中構圖部件能夠產生如權利要求1-6中的任何一項所述的圖案。