[發明專利]清洗液及清洗方法有效
| 申請號： | 201210019335.9 | 申請日： | 2012-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN102628009A | 公開（公告）日： | 2012-08-08 |
| 發明（設計）人： | 宮下雅之;久次米孝信;山本雅士;伊達和哉 | 申請（專利權）人： | 斯泰拉化工公司 |
| 主分類號： | C11D7/60 | 分類號： | C11D7/60;C11D7/32;C11D7/08;C11D7/10;C11D10/02;H01L21/02;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜;苗堃 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清洗 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種清洗液，其特征在于，該清洗液除去殘留于被清洗物表面的氧化鈰，該清洗液含有：
(1)氟化氫，和
(2)銨鹽，該銨鹽是選自氯化銨、硝酸銨、硫酸銨、四甲基氯化銨、四甲基硝酸銨和四甲基硫酸銨中的至少1種。
2.根據權利要求1所述的清洗液，其中，氟化氫的濃度為0.001～5重量％，銨鹽的濃度為0.1～20重量％。
3.根據權利要求1或2所述的清洗液，其中，含有表面活性劑。
4.一種清洗方法，其特征在于，通過使清洗液與附著有氧化鈰的被清洗物表面接觸而將氧化鈰以鈰離子的形式溶解除去，
使用含有(1)氟化氫和(2)銨鹽的清洗液作為所述清洗液，
該銨鹽是選自氯化銨、硝酸銨、硫酸銨、四甲基氯化銨、四甲基硝酸銨和四甲基硫酸銨中的至少1種。
5.根據權利要求4所述的清洗方法，其中，氟化氫的濃度為0.001～5重量％，銨鹽的濃度為0.1～20重量％。
6.根據權利要求4或5所述的清洗方法，其中，含有表面活性劑。
7.根據權利要求4或5所述的清洗方法，其中，被清洗物為半導體基板、玻璃基板、陶瓷基板、石英基板或水晶基板。
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