[發(fā)明專利]陰影光譜模擬方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210016629.6
• 申請日: 2012-01-18
• 公開（公告）號: CN102590801A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林偉;陳玉華;王吉遠;蘇榮華;余松林
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍61517部隊
• 主分類號: G01S7/497
• 分類號: G01S7/497
• 代理公司: 北京中建聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 11004
• 代理人: 朱麗巖;劉湘舟

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光譜的模擬方法，特別是一種陰影地物光譜的模擬方法。

背景技術(shù)

陰影不僅是可見光學(xué)圖像的重要組成部分，也是高光譜影像中的重要影響因素，例如目前的熱點效應(yīng)研究、光譜尺度研究、目標識別都不能忽視陰影的影響。

目前在陰影地物光譜的定量分析和模擬方面研究很少，多集中在陰影檢測領(lǐng)域，而陰影檢測方法也主要集中在基于統(tǒng)計分析的檢測和基于對比分析的檢測，沒有從深層次的光譜角度對陰影進行研究。同時由于不同波段的陰影強度受到地物反射率和入射光強度的影響存在很大差異，如果不能得到這種波段差異，就很難正確還原或是模擬陰影地物的真實光譜，也就難以探測陰影下的目標和消除陰影的影響。在高光譜模擬方面，陰影對地物光譜的影響也是不容忽視的，它決定模擬圖像的真實感和層次感。以往采用簡單的圖像特征進行陰影處理，精度不高，無法還原陰影內(nèi)地物的光譜信息，容易出現(xiàn)目標遺漏，直接影響了高光譜模擬的精度。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種基于陰影光譜亮度衰減系數(shù)的陰影光譜模擬方法。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取以下技術(shù)方案：

一種陰影地物光譜的模擬方法，其特征在于步驟如下：

步驟1，采用野外地物光譜儀實地測量無陰影條件下白板或地物的輻亮度I_dw和有陰影條件下白板或地物的輻亮度I_sw，通過公式(4)計算陰影光譜亮度衰減系數(shù)k_I陰影光譜亮度衰減系數(shù)：

kI≈IdwIsw---(4)]]>

步驟2，結(jié)合已知無陰影的入射光譜輻亮度I_d和地物光譜反射率r_λ，再根據(jù)已計算出的陰影光譜亮度衰減系數(shù)k_I，通過公式(2)計算模擬陰影地物光譜輻亮度I₀：

Io=rλIdkI---(2)]]>

所述無陰影的入射光譜輻亮度I_d是根據(jù)模擬條件人為進行設(shè)置，或者通過測量無陰影條件下的白板輻亮度I_dw近似獲取。

所述陰影光譜亮度衰減系數(shù)k_I是指無陰影的入射光譜輻亮度I_d與有陰影的入射光譜輻亮度I_s比值：

kI=IdIs---(1)]]>

所述陰影光譜亮度衰減系數(shù)k_I或者采用擬合公式(3)得到：