[發明專利]陰影光譜模擬方法無效
| 申請號： | 201210016629.6 | 申請日： | 2012-01-18 |
| 公開（公告）號： | CN102590801A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發明（設計）人： | 林偉;陳玉華;王吉遠;蘇榮華;余松林 | 申請（專利權）人： | 中國人民解放軍61517部隊 |
| 主分類號： | G01S7/497 | 分類號： | G01S7/497 |
| 代理公司： | 北京中建聯合知識產權代理事務所 11004 | 代理人： | 朱麗巖;劉湘舟 |
| 地址： | 100036*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陰影 光譜 模擬 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種陰影光譜模擬方法，其特征在于步驟如下：
步驟1，采用野外地物光譜儀實地測量無陰影條件下白板或地物的輻亮度(Idw)和有陰影條件下白板或地物的輻亮度(Isw)，通過公式(4)計算陰影光譜亮度衰減系數(kI)，陰影光譜亮度衰減系數：
步驟2，結合已知無陰影條件下的入射光譜輻亮度(Id)和地物光譜反射率(rλ)，再根據已計算出的陰影光譜亮度衰減系數(kI)，通過公式(2)計算模擬陰影地物光譜輻亮度I0：
2.根據權利要求1所述的一種陰影光譜模擬方法，其特征在于：所述無陰影的入射光譜輻亮度(Id)是根據模擬條件人為進行設置，或者通過測量無陰影條件下的白板輻亮度(Idw)近似獲取。
3.根據權利要求1所述的一種陰影光譜模擬方法，其特征在于：所述陰影光譜亮度衰減系數(kI)是指無陰影的入射光譜輻亮度(Id)與有陰影的入射光譜輻亮度(Is)比值：
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