[發明專利]吸附臺

無效

• 申請號: 201210015592.5
• 申請日: 2012-01-18
• 公開（公告）號: CN102608872A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 吉田茂;落合亮
• 申請（專利權）人: 株式會社拓普康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/683
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨

1.一種吸附臺，使工件保持在平坦的載放面上，在該工件上曝光光被成像而使既定的掩模圖形曝光，其特征在于，

包括：

固定吸附機構，可吸附所述工件而使所述工件相對所述載放面的姿態固定，

平面吸附機構，可吸附所述工件而使所述工件的面與所述載放面抵接，

所述平面吸附機構具有多個在所述載放面上開設的平面吸附孔，從所述載放面上的任意一點起朝向所述載放面的外緣，按順序進行利用所述平面吸附孔的吸附動作。

2.根據權利要求1所述的吸附臺，其特征在于，

所述平面吸附機構在所述載放面上具有多個吸附分區，在該各吸附分區內具有至少1個所述平面吸附孔，并且按照所述各吸附分區單位進行所述各平面吸附孔的吸附動作。

3.根據權利要求1或2所述的吸附臺，其特征在于，

所述固定吸附機構在所述載放面上具有至少2個固定吸附部，該各固定吸附部可以以其上端面吸附到所述工件上。

4.根據權利要求3所述的吸附臺，其特征在于，

所述各固定吸附部在已將所述工件吸附保持的狀態下，所述固定吸附部的上端面可以沿所述載放面的方向改變位置。

5.根據權利要求3所述的吸附臺，其特征在于，

還具有相對所述載放面沿所述載放面的正交方向自如進退的、上端具有吸附面的升降銷，

所述各固定吸附部能夠在使所述固定吸附部的上端面從所述載放面起沿所述正交方向伸出的狀態下，對所述工件吸附保持，而且在吸附保持所述工件的狀態下，所述固定吸附部的上端面和所述載放面能夠成為同一水平面。

6.根據權利要求1或2所述的吸附臺，其特征在于，

所述平面吸附機構從所述載放面的中心位置起朝向所述載放面的周緣部，按順序進行利用所述各平面吸附孔的吸附動作。

7.根據權利要求1或2所述的吸附臺，其特征在于，

所述平面吸附機構從所述載放面的緣部起朝向穿過所述載放面的中心位置的方向，按順序進行利用所述各平面吸附孔的吸附動作。

8.根據權利要求1或2所述的吸附臺，其特征在于，

所述平面吸附機構根據已進行吸附動作的所述平面吸附孔的吸附狀態，進行利用接下來的所述平面吸附孔的吸附動作。

9.根據權利要求1或2所述的吸附臺，其特征在于，

所述平面吸附機構根據由所述固定吸附機構保持的所述工件的撓曲，對所述各平面吸附孔的吸附動作的順序進行設定。

10.一種載放臺，對所述工件相對所述曝光光進行成像的基準平面而言的位置以及姿態進行控制，其特征在于，

采用權利要求1或2中所述的吸附臺。

11.一種曝光裝置，其特征在于，采用在權利要求1或2中所述的吸附臺。