[發(fā)明專利]卷對(duì)卷ITO膜的退火系統(tǒng)和方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210011100.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-01-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102899631A | 公開(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 具基完 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/58 | 分類號(hào): | C23C14/58;C23C16/56 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏金霞;田軍鋒 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | ito 退火 系統(tǒng) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于涂覆有諸如用于觸控面板的ITO材料之類的透明電極材料的膜的退火處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)
觸摸窗是安裝在圖像顯示裝置——諸如陰極射線管(CRT)、液晶顯示器(LCD)、場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)、等離子顯示器(PDP)和電致發(fā)光器件(ELD)等——的顯示表面上而通過允許用戶在觀看圖像顯示裝置的同時(shí)按壓觸摸窗(面板)來向計(jì)算機(jī)輸入預(yù)定信息的設(shè)備。
圖1和圖2示出了電容式觸控面板的主要部件。圖1是多層粘合結(jié)構(gòu)的平面圖,而圖2是沿圖1的線X截取的橫截面圖。參照?qǐng)D1和圖2,觸控面板總體具有如下結(jié)構(gòu):上OCA?50粘附在透明窗10下面,上電極層40(ITO)粘附在上OCA?50下面,下OCA?30粘附在上電極層40下面,下電極層20粘附在下OCA?30下面,液晶面板(LCD)60粘附在下電極層20下面。通過將各種層相互粘結(jié)而形成的觸摸屏面板(TSP)包括粘結(jié)區(qū)域C,在粘結(jié)區(qū)域C中,通過切割如上文描述的上OCA?50、上電極層(ITO)40和下OCA?30而露出連接襯墊P,以與FPCB模塊粘結(jié)。
在上述結(jié)構(gòu)中,上電極層(ITO)40和下電極層20一般使用涂覆有ITO的膜。該涂覆有ITO的膜被切割為預(yù)定片材,裝入電加熱式干燥爐內(nèi),隨后經(jīng)受使膜暴露于140℃至160℃的溫度下的退火處理,從而防止在處理過程中沉積的薄膜ITO熱收縮并且穩(wěn)定沉積的薄膜ITO的晶體結(jié)構(gòu)。然而,退火處理消耗60至90分鐘的處理時(shí)間,從而導(dǎo)致片材受熱而卷曲和發(fā)黃。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一方面針對(duì)退火系統(tǒng)和方法,通過采用紅外線加熱方法而非應(yīng)用于觸控面板的ITO膜的退火處理的加熱方法對(duì)ITO沉積層應(yīng)用直接加熱傳送方法并且通過在不將膜切割為片材單元的情況下將處于卷進(jìn)狀態(tài)的原材料直接插入處理過程的卷對(duì)卷方法使處理效率最大化,該退火系統(tǒng)和方法能夠縮短處理時(shí)間。
此外,本發(fā)明的另一方面針對(duì)退火系統(tǒng)和方法,借助于包括真空吸附滾筒而去除容易導(dǎo)致膜的傳送部分中的ITO膜的熱收縮的高溫條件,該退火系統(tǒng)和方法能夠防止膜由于在膜的輸送或傳送過程中產(chǎn)生的張緊力而被過度拉伸。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,提供了一種用于透明涂覆膜的退火系統(tǒng),其包括:展開裝置,所述展開裝置包括第一卷繞輥,涂覆有透明電極材料的膜材料繞所述第一卷繞輥卷繞;紅外線加熱模塊,所述紅外線加熱模塊使用紅外線加熱器在從所述第一卷繞輥載入的所述膜材料上進(jìn)行退火處理;以及卷繞裝置,所述卷繞裝置包括第二卷繞輥,經(jīng)過所述紅外線加熱模塊的所述膜材料繞所述第二卷繞輥卷繞。所述退火系統(tǒng)可以進(jìn)一步包括封閉環(huán)形帶式的傳送模塊,所述傳送模塊從所述展開裝置向所述卷繞裝置傳送所述膜材料。所述退火系統(tǒng)可以進(jìn)一步包括至少一個(gè)真空吸附滾筒,所述至少一個(gè)真空吸附滾筒設(shè)置在與所述傳送模塊間隔開的位置,以暫時(shí)地吸附所述膜材料,由此去除由所述展開裝置和所述卷繞裝置所產(chǎn)生的張緊力。
與借助于通過將膜切割為片材單元的電加熱方法進(jìn)行退火處理的相關(guān)技術(shù)的過程不同,通過此構(gòu)造,借助于采用紅外線加熱方法而非使用如應(yīng)用于觸控面板的ITO膜的退火處理的加熱方法對(duì)ITO沉積層應(yīng)用直接加熱傳送方法,并且借助于應(yīng)用在不將膜切割為片材單元的情況下將處于卷進(jìn)狀態(tài)的原材料直接插入處理過程的卷對(duì)卷方法使處理效率最大化,本發(fā)明示例性實(shí)施方式可以縮短處理時(shí)間。
附圖說明
根據(jù)以下結(jié)合附圖進(jìn)行的描述,本發(fā)明一些示例性實(shí)施方式的上述和其他方面、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更清楚,圖中:
圖1是根據(jù)相關(guān)技術(shù)的觸摸窗的橫截面圖;
圖2是根據(jù)相關(guān)技術(shù)的觸摸窗的平面圖;
圖3是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的退火系統(tǒng)的總體構(gòu)造的框圖;
圖4是實(shí)施根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的退火系統(tǒng)的圖示;
圖5是用于說明根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的真空吸附滾筒的構(gòu)造的橫截面圖。
<附圖標(biāo)記>
100:展開裝置????????????110:第一卷繞輥
200:真空吸附滾筒
210:第一真空吸附輥
220:第二真空吸附輥
300:紅外線加熱模塊
310:紅外線加熱器
400:傳送模塊
410:傳送帶
500:卷繞裝置
具體實(shí)施方式
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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