[發明專利]卷對卷ITO膜的退火系統和方法

無效

• 申請號: 201210011100.5
• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN102899631A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 具基完
• 申請（專利權）人: LG伊諾特有限公司
• 主分類號: C23C14/58
• 分類號: C23C14/58;C23C16/56
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 魏金霞;田軍鋒

1.一種用于透明電極涂覆膜的退火系統，包括：

展開裝置，所述展開裝置包括第一卷繞輥，涂覆有透明電極材料的膜材料繞所述第一卷繞輥卷繞；

紅外線加熱模塊，所述紅外線加熱模塊使用紅外線加熱器在從所述第一卷繞輥載入的所述膜材料上進行退火處理；以及

卷繞裝置，所述卷繞裝置包括第二卷繞輥，經過所述紅外線加熱模塊的所述膜材料繞所述第二卷繞輥卷繞。

2.如權利要求1所述的系統，進一步包括封閉環形帶式的傳送模塊，所述傳送模塊從所述展開裝置向所述卷繞裝置傳送所述膜材料。

3.如權利要求2所述的系統，其中，

所述傳送模塊被設置在設置于所述紅外線加熱模塊中的紅外線加熱區域內，并且

從所述展開裝置載入的所述膜材料設置在介于所述展開裝置與所述卷繞裝置之間的直線路上，以便在所述膜材料設置在傳送帶的上部區域中的狀態下傳送所述膜材料。

4.如權利要求3所述的系統，其中，所述傳送帶是經受抗導電處理和耐熱處理的封閉式環形帶。

5.如權利要求2所述的系統，進一步包括至少一個真空吸附滾筒，所述至少一個真空吸附滾筒設置在與所述傳送模塊間隔開的位置，以暫時地吸附所述膜材料，由此去除由所述展開裝置和所述卷繞裝置所產生的張緊力。

6.如權利要求5所述的系統，其中，所述真空吸附滾筒包括：

至少一個第一真空吸附滾筒，所述至少一個第一真空吸附滾筒設置在所述第一卷繞輥與所述傳送模塊之間；

至少一個第二真空吸附滾筒，所述至少一個第二真空吸附滾筒設置在所述第二卷繞輥與所述傳送模塊之間。

7.如權利要求5所述的系統，其中，所述真空吸附滾筒具有在滾筒表面上包括多個吸附孔的結構，所述多個吸附孔與滾筒內的真空吸附管路連通。

8.如權利要求7所述的系統，其中，所述透明電極材料是銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)和氧化鋅(ZnO)中的任一者。

9.如權利要求8所述的系統，其中，所述膜材料由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚酰亞胺(PI)和聚甲基丙烯酸甲酯中的任一者制成。

10.一種用于透明電極涂覆膜的退火方法，包括：

從展開裝置向紅外線加熱模塊供給膜材料，所述展開裝置包括第一卷繞輥，所述第一卷繞輥上卷繞有涂覆有透明電極材料的所述膜材料；

通過來自所述紅外線加熱模塊的加熱紅外線對所述膜材料的上部進行退火處理；以及

繞第二卷繞輥卷繞所述膜材料。

11.如權利要求10所述的方法，其中，從所述展開裝置向所述紅外線加熱模塊供給所述膜材料的步驟將所述膜材料吸附于設置在所述展開裝置與所述紅外線加熱模塊之間的第一真空吸附滾筒，從而通過無張緊力傳送方法將所述膜材料傳送至所述紅外線加熱模塊。

12.如權利要求11所述的方法，其中，

通過加熱紅外線進行所述退火處理的步驟將所述膜材料通過所述真空吸附滾筒供給至封閉環形帶式傳送模塊上的傳送帶的上部，并且

隨著所述傳送帶的旋轉而移動置于所述傳送帶上的所述膜材料，并且利用所述紅外線加熱進行加熱。

13.如權利要求12所述的方法，其中，繞所述第二卷繞輥卷繞所述膜材料是這樣的過程：將所述膜材料吸附于設置在所述紅外線加熱模塊與所述第二卷繞輥之間的第二真空吸附滾筒，并且通過無張緊力傳送方法傳送并繞所述第二卷繞輥卷繞所述膜材料。

14.如權利要求13所述的方法，其中，所述第一真空吸附滾筒或者所述第二真空吸附滾筒形成在滾筒的表面上的多個吸附孔上，以便通過所述滾筒中形成的真空吸附力吸附所述膜材料。

15.如權利要求13所述的方法，其中，所述第一真空吸附滾筒和所述第二真空吸附滾筒借助于吸氣裝置或者真空泵在所述滾筒內形成所述真空吸附力。