[發(fā)明專利]基片旋涂裝置和基片處理方法

在審

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• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN102709476A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊順先;劉惠森;楊明生;范繼良
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞宏威數(shù)碼機械有限公司
• 主分類號: H01L51/40
• 分類號: H01L51/40
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及有機薄膜晶體管的生產(chǎn)，尤其涉及一種可提高基片的可蒸鍍性和良品率，且操作方便的基片處理方法和基片旋涂裝置。

背景技術(shù)

TFT(Thin?Film?Transistor)LCD即薄膜場效應(yīng)晶體管LCD，是有源矩陣類型液晶顯示器(AM-LCD)中的一種。OTFT(有機薄膜晶體管)是一種采用有機材料制成的，具TFT特性的器件，采用有材料制成的TFT器件，具有性能可告靠，成本低廉，環(huán)境友好等特性。所述OTFT包括基片、依次在基片上制作的柵電極、柵絕緣層、源電極、漏電極和有機導(dǎo)體層，在基片上制作相應(yīng)電極時，一般采用真空鍍膜的方式，然而受到基片的可蒸鍍性限定，往往不能達到均勻有效的鍍膜。

因此，現(xiàn)在繼續(xù)一種可解決上述問題的基片處理方法和裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種基片旋涂裝置，所述基片旋涂裝置在基片上通過旋涂的方式涂覆一層有機膜，從而提高基片的可蒸鍍性和良品率，且操作方便。

本發(fā)明的另一目的是提供一種基片處理方法，所述基片處理方法可有效提高基片的可蒸鍍性和良品率，且操作方便。

為了實現(xiàn)上有目的，本發(fā)明提供了一種基片旋涂裝置，用于有機薄膜晶體管的生產(chǎn)工藝中，其包括真空吸盤、定位夾具、轉(zhuǎn)盤、升降機構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、下料機構(gòu)和控制機構(gòu)，所述真空吸盤用于承載基片；所述定位夾具包括位于所述基片四角的四個對位鉤，所述四個對位鉤構(gòu)成夾持所述基片的夾持區(qū)；所述轉(zhuǎn)盤包括伸入所述夾持區(qū)的安裝盤，所述安裝盤上開設(shè)有容納所述真空吸盤的容納槽，所述容納槽內(nèi)開設(shè)有通孔，所述定位夾具與所述轉(zhuǎn)盤相連并在所述轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動時同步轉(zhuǎn)動；所述升降機構(gòu)的升降桿滑動穿過所述通孔后與所述真空吸盤相連并帶動所述真空吸盤升降動作；所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)與所述轉(zhuǎn)盤相連并帶動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動；所述下料機構(gòu)的下料嘴位于所述夾持區(qū)上方并向所述基片表面下有機材料；所述控制機構(gòu)與所述升降機構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)和下料機構(gòu)相連，用于控制所述升降機構(gòu)的升降、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速度和下料機構(gòu)的下料。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明基片旋涂裝置可在蒸鍍前對所述基片采用旋涂的方式涂覆一層有機膜，從而有效提高OTFT的基片可蒸鍍性和良品率。一方面，本發(fā)明基片旋涂裝置具有升降機構(gòu)，所述升降機構(gòu)可控制所述真空吸盤升降，便于取、放基片和基片的對位；另一方面，本發(fā)明基片旋涂裝置中的定位夾具上包括位于所述基片四角的四個對位鉤，使得基片放置于夾持區(qū)后，在旋涂過程中不會因離心力而產(chǎn)生不良現(xiàn)象和問題，良品率高；再一方面，本發(fā)明具有可控制旋轉(zhuǎn)機構(gòu)旋轉(zhuǎn)速度的控制機構(gòu)，使得本發(fā)明在進行旋轉(zhuǎn)時可先控制所述基片低速旋轉(zhuǎn)并在基片上下料、在下料結(jié)束后控制基片高速旋轉(zhuǎn)使得有機膜的膜厚分布均勻，進一步提供OTFT的良品率。另，所述真空吸盤使得基片穩(wěn)定的承載于上，防止基片再升降過程中平行移動。

較佳地，所述基片旋涂裝置還包括機架、安裝于所述機架上的工作槽和蓋于所述工作槽上的上蓋板，所述定位夾具和轉(zhuǎn)盤位于所述工作槽內(nèi)。上蓋板可在完成下料后蓋于工作槽上，為基片的高速旋轉(zhuǎn)提供不受外界打擾的環(huán)境。

較佳地，所述轉(zhuǎn)盤還包括凸設(shè)于所述安裝盤下方并位于所述安裝盤中心的轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)與所述轉(zhuǎn)軸相連并帶動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。

具體地，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)電機、與所述旋轉(zhuǎn)電機輸出軸相連的主動輪、與所述轉(zhuǎn)軸相連的從動輪和環(huán)繞所述主動輪和從動輪的同步帶，所述旋轉(zhuǎn)電機帶動所述主動輪轉(zhuǎn)動，所述主動輪通過所述同步帶帶動所述從動輪轉(zhuǎn)動，所述從動輪通過所述轉(zhuǎn)軸帶動所述安裝盤轉(zhuǎn)動，所述控制機構(gòu)與所述旋轉(zhuǎn)電機相連并控制所述旋轉(zhuǎn)電機的轉(zhuǎn)動速度。

較佳地，所述升降機構(gòu)包括與所述真空吸盤相連的升降桿、與所述升降桿相連并帶動所述升降桿升降動作的氣缸電機組件，所述氣缸電機組件包括氣缸和控制所述氣缸動作的升降電機，所述升降桿與所述氣缸輸出軸相連，所述控制機構(gòu)與所述升降電機相連并控制所述升降電機的動作。

具體地，所述氣缸電機組件包括短行程氣缸電機組件和長行程氣缸電機組件，所述短行程氣缸電機組件的動作行程短于所述長行程氣缸電機組件的動作行程，所述短行程氣缸電機組件包括第一氣缸和第一升降電機，所述長行程氣缸電機組件包括第二氣缸和第二升降電機，所述第一升降電機安裝在安裝架上并與所述第一氣缸相連，所述安裝架與所述升降桿的末端固定，所述第二升降電機安裝在基片旋涂裝置的機架上并與所述第二氣缸相連，所述第一氣缸和第二氣缸的輸出軸位置相對地固定在一起。上述兩個行程不同的氣缸電機組件便于操作人員對真空吸盤高度的精細(xì)控制。