[發明專利]基片旋涂裝置和基片處理方法

在審

• 申請號: 201210011065.7
• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN102709476A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 楊順先;劉惠森;楊明生;范繼良
• 申請（專利權）人: 東莞宏威數碼機械有限公司
• 主分類號: H01L51/40
• 分類號: H01L51/40
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

1.一種基片旋涂裝置，用于有機薄膜晶體管的生產工藝中，其特征在于：包括：

真空吸盤，用于承載基片；

定位夾具，包括位于所述基片四角的四個對位鉤，所述四個對位鉤構成夾持所述基片的夾持區；

轉盤，所述轉盤包括伸入所述夾持區的安裝盤，所述安裝盤上開設有容納所述真空吸盤的容納槽，所述容納槽內開設有通孔，所述定位夾具與所述轉盤相連并在所述轉盤的轉動時同步轉動；

升降機構，所述升降機構的升降桿滑動穿過所述通孔后與所述真空吸盤相連并帶動所述真空吸盤升降動作；

旋轉機構，所述旋轉機構與所述轉盤相連并帶動所述轉盤轉動；

下料機構，所述下料機構的下料嘴位于所述夾持區上方并向所述基片表面下有機材料；

控制機構，所述控制機構與所述升降機構、旋轉機構和下料機構相連，用于控制所述升降機構的升降、旋轉機構的旋轉速度和下料機構的下料。

2.如權利要求1所述的基片旋涂裝置，其特征在于：還包括機架、安裝于所述機架上的工作槽和蓋于所述工作槽上的上蓋板，所述定位夾具和轉盤位于所述工作槽內。

3.如權利要求1所述的基片旋涂裝置，其特征在于：所述轉盤還包括凸設于所述安裝盤下方并位于所述安裝盤中心的轉軸，所述旋轉機構與所述轉軸相連并帶動所述轉軸轉動。

4.如權利要求3所述的基片旋涂裝置，其特征在于：所述旋轉機構包括旋轉電機、與所述旋轉電機輸出軸相連的主動輪、與所述轉軸相連的從動輪和環繞所述主動輪和從動輪的同步帶，所述旋轉電機帶動所述主動輪轉動，所述主動輪通過所述同步帶帶動所述從動輪轉動，所述從動輪通過所述轉軸帶動所述安裝盤轉動，所述控制機構與所述旋轉電機相連并控制所述旋轉電機的轉動速度。

5.如權利要求1所述的基片旋涂裝置，其特征在于：所述升降機構包括與所述真空吸盤相連的升降桿、與所述升降桿相連并帶動所述升降桿升降動作的氣缸電機組件，所述氣缸電機組件包括與所述升降桿相連的氣缸和控制所述氣缸動作的升降電機，所述控制機構與所述升降電機相連并控制所述升降電機的動作。

6.如權利要求5所述的基片旋涂裝置，其特征在于：所述氣缸電機組件包括短行程氣缸電機組件和長行程氣缸電機組件，所述短行程氣缸電機組件的動作行程短于所述長行程氣缸電機組件的動作行程，所述短行程氣缸電機組件包括第一氣缸和第一升降電機，所述長行程氣缸電機組件包括第二氣缸和第二升降電機，所述第一升降電機安裝在安裝架上并與所述第一氣缸相連，所述安裝架與所述升降桿的末端固定，所述第二升降電機安裝在基片旋涂裝置的機架上并與所述第二氣缸相連，所述第一氣缸和第二氣缸的輸出軸位置相對地固定在一起。

7.如權利要求6所述的基片旋涂裝置，其特征在于：還包括安裝于所述機架上的滑臺支撐座，所述滑臺支撐座包括固定于所述機架上是滑動桿、滑動設置于所述滑動桿上的滑塊和與所述滑塊相連的所述安裝架。

8.如權利要求1所述的基片旋涂裝置，其特征在于：所述定位夾具包括與所述轉盤相連的定位板，所述定位板上開設有與所述基片相對應夾持槽，所述夾持槽的四角設置有所述對位鉤，且所述夾持槽構成所述夾持區。

9.如權利要求1所述的基片旋涂裝置，其特征在于：所述真空吸盤包括吸盤部和托盤部，所述吸盤部上開設有與抽真空系統相連的若干抽氣孔，所述托盤部用于承載基片。

10.一種使用如權利1-9任一項所述的基片旋涂裝置對基片進行處理的方法，其特征在于：具體步驟如下：

(1)所述升降機構動作并帶動所述真空吸盤上升至適當位置，將基片放入所述真空吸盤內；

(2)所述升降機構動作并帶動所述真空吸盤下降以使所述真空吸盤置于所述夾持區內；

(3)所述旋轉機構動作并帶動所述基片低速旋轉的同時，所述下料機構由基片中心位置開始由里向外，在基片上噴下有機材料；

(4))下料結束后，所述旋轉機構動作并帶動所述基片高速旋轉，以使有機材料均勻涂覆于所述基片表面形成有機膜；

(5)用鍍膜機對所述形成有機摸的基片進行蒸鍍。