[發(fā)明專利]帶有定位點的電鑄網(wǎng)板的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210010786.6 | 申請日: | 2012-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN103203977A | 公開(公告)日: | 2013-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏志凌;高小平;趙錄軍;王峰 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號: | B41C1/14 | 分類號: | B41C1/14;B23K26/38 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 帶有 定位 電鑄 制作方法 | ||
1.一種帶有定位點的電鑄網(wǎng)板的制作方法,包括電鑄網(wǎng)板的制作和定位點的制作,其特征在于,所述電鑄網(wǎng)板開口圖形區(qū)域外的板面區(qū)域中設(shè)有處于對角位置的兩個圓形孔洞,用于確定定位點的坐標;所述定位點的制作步驟包括:
將固定好的電鑄網(wǎng)板放在切割基臺上;
選取開口圖形區(qū)域外的板面區(qū)域處于對角位置的兩圓形孔洞,通過CCD讀取兩個圓形孔洞中心點坐標o1(x1、y1)、o2(x2、y2),并攝錄到電腦軟件上,與電腦軟件中的原始文件圖像上的o1o(x1o、y1o)、o2o(x2o、y2o)相對比,以此為參照,調(diào)整電鑄網(wǎng)板相對于切割基臺的位置,使o1(x1、y1)、o2(x2、y2)與o1o(x1o、y1o)、o2o(x2o、y2o)相互重合,從而確定定位點的坐標;調(diào)整好切割參數(shù),調(diào)整好激光切割頭的縱向高度,使其激光焦點落在電鑄網(wǎng)板表面;
通過激光切割頭發(fā)射出激光,在電鑄網(wǎng)板表面的定位點區(qū)域進行切割。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,在CCD定位時作出切割坐標補償,避免激光切割定位點時,所切范圍超出了定位點的要求區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述切割的參數(shù)包括:
切割速率為10000~20000孔/小時;
能量為500~2000?mj;
氣體壓力為2~8?MPa;
電流為500~1000?mA;
激光頻率為6000-8000?Hz;
直線切割速度為100-200?cm.min-1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的的制作方法,其特征在于,電鑄網(wǎng)板的制作包括:芯模前處理、?貼膜、曝光、單面顯影、電鑄、褪膜、剝離和網(wǎng)板后處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的的制作方法,其特征在于,
所述芯模前處理包括:將芯模除油、酸洗、噴砂,以去除表面的油漬雜質(zhì),并將表面打磨光滑;
所述貼膜包括:將芯模表面進行貼膜;
所述曝光包括:使圖形開口區(qū)域曝光,以便將未曝光區(qū)域通過顯影去除,留下曝光的部分以作后續(xù)電鑄步驟的保護膜;
所述單面顯影包括:將所述曝光步驟中未曝光部分顯影,留下曝光的部分以作后續(xù)電鑄步驟的保護膜;
所述電鑄包括:采用電鑄的方法將電鑄材料電鑄到未曝光區(qū)域;
所述褪膜包括:將顯影工序中未清除的曝光干膜通過褪膜液的浸泡刷洗褪除干凈;
所述剝離包括:將掩模板從芯模上剝離;
所述網(wǎng)板后處理包括:將從芯模上剝離下來的電鑄網(wǎng)板除油、酸洗、風(fēng)干。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的制作方法,其特征在于,所述定位點為圓形或者方形,所述圓形定位點直徑的尺寸或者所述方形定位點對角線的尺寸為0.5-2mm;激光在孔內(nèi)切割為橫縱列陣交錯切割,切割的細線線徑在5-25μm,間距為10-50μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的制作方法,其特征在于,所述圓形孔洞的直徑為1-5mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的制作方法,其特征在于,所述定位點的個數(shù)至少為兩個,且處于電鑄網(wǎng)板的對角位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的制作方法,其特征在于,所述電鑄網(wǎng)板的厚度為20-200μm;所述電鑄網(wǎng)板上具有開口,開口為圓形或矩形;所述開口具有錐度,且PCB面開口尺寸大于印刷面,開口錐度為2-8°。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的制作方法,其特征在于,所述電鑄網(wǎng)板的材料為鎳鐵合金、純鎳或鎳鈷合金;所述的鎳鐵合金鍍層表面光亮度為一級光亮;所述的鎳鐵合金鍍層的均勻性COV小于5%。
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