[發(fā)明專利]掩模對位裝置及其對位方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210010748.0 | 申請日: | 2012-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN103205694A | 公開(公告)日: | 2013-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏志凌;高小平;鄭慶靚 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 對位 裝置 及其 方法 | ||
1.一種掩模對位裝置,用于對位掩模板和掩模框架,其特征在于:包括基臺、銷釘、拉動裝置,所述掩模板、所述掩模框架、所述銷釘和所述拉動裝置均位于基臺上,所述掩模板和所述掩模框架上分別具有對位孔,所述銷釘可以通過所述拉動裝置微調(diào)其位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模對位裝置,其特征在于,所述掩模板上的對位孔形狀與所述掩模框架上的對位孔形狀相同、數(shù)量相等、大小相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模對位裝置,其特征在于,所述對位孔可以是方孔、圓弧孔等形狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模對位裝置,其特征在于,所述掩模板和所述掩模框架上的對位孔至少為兩個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模對位裝置,其特征在于,所述基臺的內(nèi)邊緣位于所述掩模框架的內(nèi)邊緣里側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模對位裝置,其特征在于,所述銷釘可以在所述掩模框架的外邊框長度范圍內(nèi)的任意位置,所述銷釘?shù)膫€數(shù)至少為三個。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模對位裝置,其特征在于,當(dāng)所述掩模框架一邊中的銷釘為一個時,銷釘位于掩模框架該邊的中間位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模對位裝置,其特征在于,當(dāng)所述掩模框架一邊中的銷釘為兩個時,兩個銷釘關(guān)于掩模框架該邊的中點對稱。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模對位裝置,其特征在于,所述掩模框架外邊框上至少有兩條邊有銷釘。
10.一種掩模對位方法,其特征在于,使用上述掩模對位裝置實現(xiàn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模對位方法,其特征在于,步驟包括:將掩模框架放于對位基臺上,使其側(cè)面與銷釘相接觸;將掩模板水平放置在掩模框架上,保證二者緊密貼合;通過CCD準(zhǔn)確捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔;通過裝置自帶軟件讀出相對應(yīng)的對位孔的最大偏差值;若差值超出±15μm,調(diào)整銷釘;再次用CCD?捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔,讀取兩組對位孔之間相對偏差值;重復(fù)讀取兩組對位孔的偏差值,直至控制在±15μm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





