[發明專利]掩模對位裝置及其對位方法

有效

• 申請號: 201210010748.0
• 申請日: 2012-01-16
• 公開（公告）號: CN103205694A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平;鄭慶靚
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

?

技術領域

本發明涉及一種掩模對位裝置及其對位方法，屬于有機電致發光元件的制造領域。

?

背景技術

?有機電致發光元件（OLED）因其視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率高及自備發光等特點，備受關注，并被視為使下一代的平面顯示器新興應用技術。

在制造有機電致發光元件的真空蒸鍍裝置方面，在底部設置盛放有機材料的坩堝，在坩堝的外面設置使用有機材料加熱、蒸發的加熱器。在蒸鍍裝置中，設置與坩堝相對配置的夾頭以及包夾玻璃基板的絕緣部件而使該基板安裝保持在夾頭的底面的基板夾具。掩模組件包括掩模板及掩模框架，夾頭是用于維持玻璃基板為平面狀的平板，在基板夾中設置升降機構，并在升降機構上設有夾具，通過夾具固定掩模框架，使其相對于基板的位置偏差控制在一定范圍內，具有局限性。升降夾具，使掩模組件靠近基板。

而且在制造有機發光元件時，在基板上，每10um寬度的像素必須將紅、綠、藍的發光部并列，各像素的位置精度必須為±5um的程度；有由于蒸鍍過程中，溫度不斷升高，受板材受熱膨脹的影響，掩模組件會相對于基板產生位置偏差，因此對真空蒸鍍裝置掩模的位置精度要求很高。

掩模組件上蒸鍍設備時是通過掩模板上的定位點與基板進行對位，由于掩模框架的位置調試范圍存在局限性，掩模板又焊接在掩模框架上，使得僅僅通過掩模板定位點與基板進行對位無法滿足位置進度要求，必須保證掩模板與掩模框架的位置偏差也要控制在一定范圍內。

而目前在蒸鍍用掩模板的制造領域，掩模板的組裝設備無法做到掩模板與掩模框架高效、高精度對位。

?

發明內容

本發明提供一種掩模對位裝置及相關對位方法，能夠使掩模板與掩模框架精確對位，并使其位置偏差控制在±15μm內。

針對以上問題，本發明提出以下方案：

一種掩模對位裝置，用于對位掩模板和掩模框架，其特征在于：包括基臺、銷釘、拉動裝置，所述掩模板、所述掩模框架、所述銷釘和所述拉動裝置均位于基臺上，所述掩模板和所述掩模框架上分別具有對位孔，所述銷釘可以通過所述拉動裝置微調其位置。

所述掩模板上的對位孔形狀與所述掩模框架上的對位孔形狀相同、數量相等、大小相等。

優選的，所述對位孔可以是方孔、圓弧孔等形狀，所述掩模板和所述掩模框架上的對位孔至少為兩個。

所述基臺的內邊緣位于所述掩模框架的內邊緣里側。

所述銷釘可以在所述掩模框架的外邊框長度范圍內的任意位置，所述銷釘的個數至少為三個。

當所述掩模框架一邊中的銷釘為一個時，銷釘位于掩模框架該邊的中間位置。

當所述掩模框架一邊中的銷釘為兩個時，兩個銷釘關于掩模框架該邊的中點對稱。

優選的，所述掩模框架外邊框上至少有兩條邊有銷釘。

一種掩模對位方法，其特征在于，使用上述掩模對位裝置實現。

所述掩模對位方法，其特征在于，步驟包括：將掩模框架放于對位基臺上，使其側面與銷釘相接觸；將掩模板水平放置在掩模框架上，保證二者緊密貼合；通過CCD準確捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔；通過裝置自帶軟件讀出相對應的對位孔的最大偏差值；若差值超出±15μm，調整銷釘；再次用CCD（Charge-coupled?Device，電荷耦合元件）捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔，讀取兩組對位孔之間相對偏差值；重復讀取兩組對位孔的偏差值，直至控制在±15μm。

本發明的對位裝置及配套的對位方法能夠使掩模板與掩模框架精確對位，并使其位置偏差控制在±15μm。

?

附圖說明

下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步詳細的說明。

圖1掩模對位裝置的結構示意圖。

其中：1、2為掩模框架對位孔；3為掩模框架；4為對位基臺；5、6、7均為銷釘。

圖2為掩模對位裝置的俯視圖。

圖3為掩模板與掩模框架對位示意圖。

其中：11為掩模板；12為掩模板開口；13、14為掩模板對位孔。

圖4為對位孔的偏差示意圖。

其中：13、14為掩模板對位孔；1、2為掩模框架對位孔；L為1與13的最大位置偏差，2與14的最大位置偏差與此相同。

圖5為掩模對位方法的流程圖。

?

具體實施方式

實施例