[發(fā)明專利]用于掩模組件間接對(duì)位的系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210010670.2
• 申請(qǐng)日: 2012-01-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103205670B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏志凌;高小平;孫倩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種用于掩模組件間接對(duì)位的系統(tǒng)，包括：

對(duì)位基臺(tái)，具有至少兩個(gè)對(duì)位銷釘以定位水平放置在對(duì)位基臺(tái)上的掩模框架；

掩模板，具有滿足蒸鍍要求的開(kāi)口圖形區(qū)域以及處于對(duì)角位置且在開(kāi)口圖形區(qū)域外的至少兩個(gè)對(duì)位孔；

掩模框架，其邊框上與掩模板對(duì)位孔相對(duì)應(yīng)的位置上具有對(duì)位孔，且掩模框架對(duì)位孔的直徑大于相對(duì)應(yīng)的掩模板對(duì)位孔的直徑；

對(duì)位輔助板，其尺寸與掩模板的尺寸相同且其對(duì)位孔與掩模板對(duì)位孔的相對(duì)位置相同，其中對(duì)位輔助板對(duì)位孔的直徑與掩模框架上相對(duì)應(yīng)位置處的對(duì)位孔的直徑相同；以及

CCD，自上而下捕捉對(duì)位輔助板對(duì)位孔或掩模板對(duì)位孔與相應(yīng)的掩模框架對(duì)位孔的位置圖像以檢測(cè)對(duì)位。

2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，掩模板對(duì)位孔的直徑不大于0.5mm。

3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，掩模板框架對(duì)位孔的直徑為2～3mm。

4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，對(duì)位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸,且對(duì)位輔助板具有至少兩個(gè)掛孔以與對(duì)位基臺(tái)上的掛鉤配合來(lái)固定對(duì)位輔助板。

5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，對(duì)位輔助板的掛孔可以是圓形、方形、半圓形中的一種形狀。

6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，對(duì)位輔助板的掛孔與掩模板掛孔的尺寸、位置以及形狀相同。