[發(fā)明專(zhuān)利]用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210009984.0
• 申請(qǐng)日: 2012-01-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102517556A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-06-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉高水;周志文;李民英
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 北京連城創(chuàng)新知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11254
• 代理人: 劉伍堂

技術(shù)領(lǐng)域

[0001]?本發(fā)明屬于磁控濺射鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，特別是一種用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置。

背景技術(shù)

在磁控濺射鍍膜設(shè)備領(lǐng)域里，影響鍍膜工藝流程因素諸多，比如溫度，鍍膜氣壓，鍍膜時(shí)間，以及靶面與基片距離（又稱(chēng)靶基距）等。靶基距的大小將影響膜層的沉積速率，膜層均勻性，膜層的質(zhì)量，以及基片沉積溫度等。在有些磁控濺射設(shè)備有可調(diào)靶基距裝置，但存在著很大的弊端，對(duì)與磁控濺射設(shè)備來(lái)說(shuō)，為抽到全真空需要花費(fèi)很長(zhǎng)時(shí)間，所以在設(shè)備操作基本原則上，盡量減少真空室暴露空氣當(dāng)中，而傳統(tǒng)調(diào)節(jié)靶基距方法是在破空的情況下進(jìn)行的，同時(shí)也不是線(xiàn)形調(diào)節(jié)，這樣的情況下就很難找到最佳的靶基距，從而影響膜層質(zhì)量和鍍膜效率。

在很多的磁控濺射設(shè)備沒(méi)有可調(diào)靶基距裝置，即使有傳統(tǒng)需破空狀態(tài)下操作的，其整個(gè)過(guò)程復(fù)雜，難以尋求最佳工作距離，因此急需一種可調(diào)靶基距裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明就是針對(duì)技術(shù)的不足，提出用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置，該裝置避免真空室暴露大氣，影響抽真空時(shí)間，實(shí)現(xiàn)在真空狀態(tài)下調(diào)節(jié)，同時(shí)解決傳統(tǒng)的墊塊式調(diào)節(jié)的不連續(xù)性及膜層的縱向不均勻性的問(wèn)題。

本發(fā)明所述用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置由可調(diào)節(jié)密封連接裝置、門(mén)板及靶體三部分組成；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成，上軸封壓和下軸封壓塊通過(guò)螺釘固定在門(mén)板兩側(cè)，上軸封壓塊與下軸封壓塊之間分別依次設(shè)置有支撐軸套和軸封；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置的軸穿過(guò)門(mén)板和靶體，軸的一端安裝有水管接頭，軸通過(guò)螺紋與月牙螺母連接，月牙螺母和密封裝置之間設(shè)置有絕緣套固定塊；所述的彈簧套裝在軸上，并置于下軸封壓塊與靶體之間；所述的彈簧固定在靶體和下軸封壓塊上；彈簧與靶體接觸點(diǎn)位置處的軸焊接在靶體上。

進(jìn)一步的，所述的軸為中空，并在中空軸中通入冷水。

進(jìn)一步的，所述的月牙螺母上設(shè)置有一電極引入固定孔。

進(jìn)一步的，所述的月牙螺母和絕緣套固定塊被絕緣套包裹。

進(jìn)一步的，所述靶體放置彈簧的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊上均有一與彈簧直徑相適應(yīng)的凹槽。

本發(fā)明的有益效果在于：通過(guò)把可調(diào)靶基距裝置固定在門(mén)板和靶體上，利用彈簧的伸縮性，調(diào)整時(shí)不要將基體置于空氣中，使調(diào)試出最佳的靶基距的時(shí)間短，且可以在靶體兩端調(diào)整，使得鍍膜層的均勻性得到較大的提高。

附圖說(shuō)明

圖1為用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基裝置結(jié)構(gòu)圖；

圖中：1基片、2軸、3彈簧、4軸封、5支撐軸套、6絕緣套固定塊、7螺釘、8水管接頭、9絕緣套、10上軸封壓塊、11?可調(diào)靶基距裝置、12門(mén)板、13靶體、14電極引入固定孔、15、下軸封壓塊、16月牙螺母。

具體實(shí)施方式

如圖1和圖2所示，本發(fā)明所述用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置由可調(diào)節(jié)密封連接裝置11、門(mén)板12及靶體13三部分組成；所述的可調(diào)節(jié)密封連接11裝置由軸2、月牙螺母16、絕緣套固定塊6、密封裝置及彈簧3組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊10、下軸封壓塊15、支撐軸套5、軸封4及螺釘7組成，上軸封壓塊10通過(guò)螺釘7固定在門(mén)板12上面，下軸封壓塊15通過(guò)螺釘7固定在門(mén)板12下面，上軸封壓塊10與下軸封壓塊15之間分別依次設(shè)置有支撐軸套5和軸封4；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置11的軸2穿過(guò)門(mén)板12和靶體13，軸2的一端安裝有水管接頭8，軸2通過(guò)螺紋與月牙螺母16連接，月牙螺母16和密封裝置之間設(shè)置有絕緣套固定塊6；所述的彈簧3套裝在軸2上，并置于下軸封壓塊15與靶體13之間；所述的彈簧3固定在靶體13和下軸封壓塊15上；彈簧3與靶體13接觸點(diǎn)位置處的軸2焊接在靶體13上。

進(jìn)一步的，所述的軸2為中空，并在中空軸中通入冷水。

進(jìn)一步的，所述的月牙螺母16上設(shè)置有一電極引入固定孔14。

進(jìn)一步的，所述的月牙螺母16和絕緣套固定塊6被絕緣套9包裹。

進(jìn)一步的，所述靶體13放置彈簧3的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊15上均有一與彈簧3直徑相適應(yīng)的凹槽。

本發(fā)明所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置的工作原理為：

???基片和門(mén)板之間的距離固定不變，調(diào)節(jié)距離時(shí)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)月牙螺母16，使月牙螺母16的受力通過(guò)絕緣套固定塊6及軸封裝置傳導(dǎo)到彈簧3上，通過(guò)彈簧3的彈力調(diào)整門(mén)板12與靶體13之間的距離，實(shí)現(xiàn)密封調(diào)節(jié)。