[發明專利]用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置

無效

• 申請號: 201210009984.0
• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN102517556A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 劉高水;周志文;李民英
• 申請（專利權）人: 廣東志成冠軍集團有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京連城創新知識產權代理有限公司 11254
• 代理人: 劉伍堂

1.用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置由可調節密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調節密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成，上軸封壓和下軸封壓塊通過螺釘固定在門板兩側，上軸封壓塊與下軸封壓塊之間分別依次設置有支撐軸套和軸封；所述的可調節密封連接裝置的軸穿過門板和靶體，軸的一端安裝有水管接頭，軸通過螺紋與月牙螺母連接，月牙螺母和密封裝置之間設置有絕緣套固定塊；所述的彈簧套裝在軸上，并置于下軸封壓塊與靶體之間；所述的彈簧固定在靶體和下軸封壓塊上；彈簧與靶體接觸點位置處的軸焊接在靶體上。

2.如權利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，其特征在于，所述的軸為中空，并在中空軸中通入冷水。

3.如權利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，其特征在于，所述的月牙螺母上設置有一電極引入固定孔。

4.如權利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，其特征在于，所述的月牙螺母和絕緣套固定塊被絕緣套包裹。

5.所述靶體放置彈簧的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊上均有一與彈簧直徑相適應的凹槽。