[發(fā)明專利]一種透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210009019.3
• 申請(qǐng)日: 2012-01-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103204637A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何光俊;費(fèi)紅財(cái);劉建軍;李金成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海北玻玻璃技術(shù)工業(yè)有限公司;洛陽(yáng)北方玻璃技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): C03C17/245
• 分類號(hào): C03C17/245
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 王敏杰

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及玻璃鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)。

背景技術(shù)

透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃（transparent?conducting?oxide,簡(jiǎn)稱TCO），是在平板玻璃表面通過(guò)物理或化學(xué)鍍膜的方法均勻地鍍上一層透明的導(dǎo)電氧化物玻璃。太陽(yáng)能電池（光伏電池）主要分為晶體硅電池和薄膜電池，當(dāng)前晶體硅占整個(gè)光伏市場(chǎng)80％的份額，薄膜電池占比約20％。晶硅電池制造時(shí)要消耗大量電能和硅材料，而薄膜太陽(yáng)能電池厚度只有幾微米到幾十微米，消耗材料是晶硅電池的1%，適用范圍廣，可節(jié)省大量硅材料，采用合適的生產(chǎn)工藝，可進(jìn)行大面積沉積，大大提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本，因此薄膜太陽(yáng)能電池被認(rèn)為是發(fā)展前景最為光明的新型太陽(yáng)能電池。薄膜太陽(yáng)能電池（thin-film?pv）是將半導(dǎo)體薄膜沉積在載體上形成的電池，在光照條件下，半導(dǎo)體薄膜可以利用光升伏打效應(yīng)將光能轉(zhuǎn)化為電能，并通過(guò)前電極與背電極將電能輸出。對(duì)于薄膜太陽(yáng)能電池來(lái)說(shuō)，由于中間半導(dǎo)體層幾乎沒(méi)有橫向?qū)щ娦阅埽虼吮仨毷褂肨CO玻璃有效收集電池的電流，同時(shí)TCO薄膜具有高透和減反射的功能讓大部分光進(jìn)入吸收層，TCO玻璃作為薄膜太陽(yáng)能電池的前電極，是其不可缺失的一部分。其中，TCO鍍膜技術(shù)包括在線鍍膜，所謂在線鍍膜，就是在生產(chǎn)玻璃的過(guò)程中進(jìn)行鍍膜，一般采用化學(xué)氣相沉積工藝鍍膜，雖然工藝設(shè)備簡(jiǎn)單，但是在其鍍膜過(guò)程中，容易產(chǎn)生有害氣體，增加了生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述存在的問(wèn)題，本發(fā)明的目的是提供一種透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，利用磁控濺射法鍍膜，而且鍍膜工藝實(shí)在真空條件下完成，獲得的膜層純度高，沒(méi)有有害氣體產(chǎn)生，為離線鍍膜工藝提供了真空、磁場(chǎng)、加熱及傳動(dòng)環(huán)境。

本發(fā)明的目的是通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，包括鍍膜室，所述鍍膜室通過(guò)鍍膜室頂板和鍍膜室端板形成腔體，在所述端板外側(cè)設(shè)有真空隔離閥；在所述腔體頂板上安裝有一陰極擋板，在所述陰極擋板上安裝陰極磁控濺射裝置，所述陰極磁控濺射裝置利用磁控濺射進(jìn)行鍍膜，在所述腔體頂板上還安裝抽氣裝置，將所述腔體內(nèi)部形成真空；在所述腔體中設(shè)置輥道裝置，所述輥道裝置用以傳送玻璃；還包括加熱冷卻系統(tǒng)，所述加熱冷卻系統(tǒng)分別設(shè)置在所述輥道裝置的下方并固定所述腔體的主底板上以及所述陰極磁控濺射裝置和所述抽氣裝置之間，所述加熱冷卻系統(tǒng)包括加熱器和冷卻器，用以加熱所述腔體和冷卻元件，所述冷卻器設(shè)置在所述加熱器的外側(cè)。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，所述抽氣裝置包括前級(jí)泵和主泵。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，所述抽氣裝置包括磁懸浮分子泵、低溫泵、旋片機(jī)械泵以及干泵。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，所述加熱器的背面設(shè)置有拋光反射板，用以遮擋所述加熱器產(chǎn)生的熱量。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，所述冷卻器包括冷卻銅管和冷卻鋁板，所述冷卻銅管固定在所述冷卻鋁板上。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，所述腔體的主底板下焊接井字板和凹槽型加強(qiáng)筋。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，在所述腔體的頂板上焊接筋板。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，所述輥道裝置包括輥道，所述輥道的間距為200mm。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，在所述抽氣裝置和所述腔體間安裝冷卻裝置，用以降低所述抽氣裝置的進(jìn)氣口的氣體溫度。

上述的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃鍍膜線真空系統(tǒng)，其中，還包括用以測(cè)試腔體真空度的復(fù)合規(guī)，所述復(fù)合規(guī)安裝在所述腔體外部并且與所述腔體相連通；還包括用以測(cè)試靶位附近真空度的靶位規(guī)，所述靶位規(guī)與所述陰極磁控濺射裝置相連通并安裝在所述腔體外部與所述靶位相對(duì)。

與已有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于：

利用多種不同類型的主泵和前級(jí)泵組成復(fù)合的抽氣裝置，保證鍍膜室腔體的真空狀態(tài)；另外，通過(guò)磁控濺射裝置，提供鍍膜工藝的磁控濺射工藝。本發(fā)明還包括加熱冷卻系統(tǒng)，利用加熱冷卻系統(tǒng)，為鍍膜室腔體提供和保障鍍膜必須的溫度，同時(shí)，利用冷卻裝置能夠保證加熱區(qū)中面加熱的元件的溫度下降至自身合適的耐溫范圍內(nèi)，延長(zhǎng)元件的使用壽命。總之，通過(guò)在腔體中設(shè)置傳動(dòng)裝置、磁控濺射裝置以及加熱冷卻系統(tǒng)和抽氣裝置提供了鍍膜室必須的真空，磁場(chǎng)，加熱及傳動(dòng)的需求。

附圖說(shuō)明