[發(fā)明專利]處理設(shè)備有效
申請?zhí)枺?/td> | 201210008764.6 | 申請日: | 2012-01-12 |
公開(公告)號: | CN102581481A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 約翰內(nèi)斯·施密德;A·佩特萊克 | 申請(專利權(quán))人: | 豪邁木材加工系統(tǒng)公司 |
主分類號: | B23K26/02 | 分類號: | B23K26/02 |
代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 黨曉林;王小東 |
地址: | 德國紹*** | 國省代碼: | 德國;DE |
權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 處理 設(shè)備 | ||
1.一種用于處理工件的設(shè)備,所述處理尤其是涂覆,所述工件優(yōu)選地至少某些部分由木材、木質(zhì)材料、塑料等構(gòu)成,所述設(shè)備具有:
輻射裝置,該輻射裝置用于產(chǎn)生和/或傳輸輻射,所述輻射優(yōu)選地是激光束;以及
軸單元,所述軸單元具有在軸支承部分(2)內(nèi)可旋轉(zhuǎn)的軸(4)以及用于容納處理工具和/或處理單元的保持器(5);
所述設(shè)備的特征在于,
所述軸(4)和/或被附接到所述軸的單元(10)至少在某些部分中具有腔(4b、9a、2b);并且
所述輻射裝置被布置成使得所述輻射的至少某些部分在所述腔內(nèi)傳送。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述腔終止于用于容納處理工具和/或處理單元的所述保持器(5)附近和/或終止于被連接到所述軸(4)的所述單元(10)中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,其特征在于,所述腔沿所述軸(4)的軸向延伸通過整個軸(4)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所述腔(9a)延伸通過卡緊工具(9),所述卡緊工具(9)延伸通過所述軸(4),所述卡緊工具(9)尤其沿所述軸(4)的軸向延伸并且被配置成容納所述單元(10)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,至少一個軸單元可在至少一個方向上來回移動,優(yōu)選地可在三個不同的方向上來回移動。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,至少一個輻射單元被直接或間接接合到所述軸單元并且優(yōu)選地可隨該軸單元來回移動。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還具有用于輻射的第一傳輸單元(7a),所述第一傳輸單元配置成將所述輻射單元所產(chǎn)生的輻射傳輸?shù)剿鲚S的所述腔。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還具有用于輻射的第二傳輸單元,所述第二傳輸單元配置成將離開所述軸的所述腔的輻射傳輸?shù)教幚韰^(qū)域,尤其是傳輸?shù)焦ぜ蛘叽唤雍系皆摴ぜ牟考?/p>
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的設(shè)備,其特征在于,至少一個傳輸單元具有至少一個輻射引導(dǎo)裝置,所述輻射引導(dǎo)裝置選自反射光學(xué)器件或透射光學(xué)器件,尤其是選自包括纖維光纜、鏡、透鏡和棱鏡的組。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還具有處理單元(6)、尤其是用于將涂覆材料附著到工件的固定單元。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備,其特征在于,所述處理設(shè)備(6)能夠被插入到所述軸(4)的所述保持器(5)中或者被插入到被連接到所述軸(4)的所述單元(10)中,并且能夠被從所述保持器(5)或所述單元(10)移除。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備,其特征在于,所述處理單元(6)相對于所述軸(4)被以可旋轉(zhuǎn)的方式支承。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述軸(4)、被附接到所述軸的所述單元(10)和/或被附接到所述軸(4)或單元(10)的所述處理單元(6)能夠以可旋轉(zhuǎn)的方式被驅(qū)動。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還具有輻射反射裝置(20),所述輻射反射裝置(20)配置并布置成將由涂覆材料反射的輻射反射到該涂覆材料上。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備,其特征在于,所述輻射反射裝置(20)具有型面,尤其是具有波紋面,
由此,所述型面形成為使得射到所述型面上的所述輻射遠離所述涂覆材料的出口孔(26a)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于豪邁木材加工系統(tǒng)公司,未經(jīng)豪邁木材加工系統(tǒng)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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