[發(fā)明專利]蝕刻裝置有效
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210008729.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-01-12 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103208438B | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-04-06 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 余端仁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 余端仁 |
主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽(yáng) |
地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 蝕刻 裝置 | ||
1.一種蝕刻裝置,其包含有一蝕刻組件、一輸送組件及一載具組件,其中:
該蝕刻組件設(shè)有一蝕刻腔體、一上蓋板及一升降裝置,該上蓋板可翻轉(zhuǎn)地設(shè)于該蝕刻腔體頂面且設(shè)有一電極導(dǎo)入裝置、兩氣孔板及一遮板,該電極導(dǎo)入裝置固設(shè)于該上蓋板頂面且朝內(nèi)設(shè)有一電極,兩氣孔板間隔地設(shè)于該上蓋板底面,該遮板間隔地設(shè)于該上蓋板底面且貫穿設(shè)有與該兩氣孔板相對(duì)應(yīng)的穿孔,于兩穿孔間貫穿一供該電極伸入該遮板的開(kāi)孔,該升降裝置固設(shè)于該蝕刻腔體底面且朝上設(shè)有一伸入該蝕刻腔體的升降桿;
該輸送組件設(shè)于該蝕刻組件內(nèi)且于該蝕刻腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸;以及
該載具組件設(shè)于該輸送組件上而可移動(dòng)地設(shè)于該蝕刻腔體內(nèi)并設(shè)有數(shù)個(gè)載盤,各載盤與該輸送組件的滾輪相貼靠且于頂面設(shè)有一極板,該極板貫穿設(shè)有兩間隔設(shè)置并分別與該遮板兩穿孔相對(duì)應(yīng)的承載孔;以及
該蝕刻裝置另設(shè)有一進(jìn)料組件、一出料組件及一閥門組件,其中該進(jìn)料組件設(shè)有一前、后端呈開(kāi)口狀且與該蝕刻腔體前端相結(jié)合的進(jìn)料腔體,該出料組件設(shè)有一與該蝕刻腔體異于該進(jìn)料腔體一端相結(jié)合的出料腔體,而該閥門組件設(shè)于該進(jìn)料組件、該蝕刻組件及該出料組件之間且設(shè)有數(shù)個(gè)閥門裝置,各閥門裝置分別該設(shè)于各腔體之間,該輸送組件于該進(jìn)料組件及該出料組件的各腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸,該載具組件設(shè)于該輸送組件上而可移動(dòng)地設(shè)于各腔體之間。
2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置,其中該進(jìn)料腔體于內(nèi)部?jī)蓚?cè)各設(shè)有一第一導(dǎo)軌,該蝕刻腔體于內(nèi)部?jī)蓚?cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體第一導(dǎo)軌直線相對(duì)的第二導(dǎo)軌,該升降裝置的升降桿伸設(shè)于該蝕刻腔體內(nèi)且介于兩第二導(dǎo)軌間,而該出料腔體于內(nèi)部?jī)蓚?cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體第一導(dǎo)軌及該蝕刻腔體第二導(dǎo)軌直線相對(duì)的第三導(dǎo)軌,該輸送組件的各滾動(dòng)軸設(shè)于各腔體的兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)。
3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置,其中該上蓋板于該遮板周圍的底面設(shè)有多個(gè)定位桿,各定位桿在異于該上蓋板的底端設(shè)有一套設(shè)蓋,而該載具組件的各載盤于該極板周圍的頂面設(shè)有數(shù)個(gè)定位凸粒,當(dāng)該載盤移動(dòng)至該蝕刻腔體內(nèi)時(shí),各定位凸粒與該蝕刻組件各定位桿的套設(shè)蓋直線相對(duì)。
4.如權(quán)利要求3所述的蝕刻裝置,其中該上蓋板于兩相對(duì)側(cè)邊分別設(shè)有一與該蝕刻腔體頂面相固設(shè)結(jié)合的翻轉(zhuǎn)壓缸軸,使該上蓋板可相對(duì)該蝕刻腔體翻轉(zhuǎn),且該上蓋板于頂面固設(shè)有一與該電極導(dǎo)入裝置相連接的輸出功率單元。
5.如權(quán)利要求4所述的蝕刻裝置,其中該兩氣孔板分別于該上蓋板頂面設(shè)有一用以輸送氣體的輸送管,使氣體可經(jīng)由輸送管及氣孔板而進(jìn)入該蝕刻腔體內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的蝕刻裝置,其中該遮板設(shè)有數(shù)個(gè)與該上蓋板相固設(shè)結(jié)合的固定桿,使該遮板間隔地設(shè)于該上蓋板的底面。
7.如權(quán)利要求6所述的蝕刻裝置,其中該蝕刻組件另設(shè)有一與該蝕刻腔體相結(jié)合的高真空泵浦,使該蝕刻腔體內(nèi)部維持于一高真空的狀態(tài)。
8.如權(quán)利要求7所述的蝕刻裝置,其中各閥門裝置設(shè)有一閥門及一閥門氣壓缸,通過(guò)閥門氣壓缸的作動(dòng),使兩相鄰腔體間呈現(xiàn)相通或封閉的狀態(tài),而該輸送組件各轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端套設(shè)有一傳動(dòng)輪,該傳動(dòng)輪可為一鏈輪或一皮帶輪。
9.如權(quán)利要求8所述的蝕刻裝置,其中該蝕刻裝置在異于該蝕刻腔體的出料腔體一側(cè)設(shè)有一清潔腔體,從而對(duì)于蝕刻后的晶圓進(jìn)行表面清洗。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造