[發(fā)明專利]位相差膜的制法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210008547.7
• 申請日: 2012-01-11
• 公開（公告）號: CN103207425A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設計）人: 張建成;陳秋芳;邱大任;洪維澤
• 申請（專利權）人: 遠東新世紀股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30
• 代理公司: 北京泰吉知識產(chǎn)權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍;羅會英

1.一種位相差膜的制法，其特征在于其包含：

(a)在基材上形成光配向?qū)樱摴馀湎驅(qū)泳哂羞h離該基材的配向面，該配向面具有欲配向的多個第一區(qū)與多個第二區(qū)；

(b)將該光配向?qū)拥乃龅谝粎^(qū)與所述第二區(qū)曝露于具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光下，使該光配向?qū)拥乃龅谝粎^(qū)與所述第二區(qū)具有第一配向；

(c)在圖樣化光罩的遮蔽下，將該具有第一配向的光配向?qū)拥乃龅诙^(qū)曝露于具有不同于該第一偏極方向的第二偏極方向的第二線性偏極紫外光下，使該光配向?qū)拥乃龅诙^(qū)轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂械诙湎颍龅谝粎^(qū)仍維持具有第一配向，借此，得到具有兩種配向的光配向?qū)樱患?/p>

(d)將液晶涂布于該具有兩種配向的光配向?qū)由希偈乖撘壕Ч袒玫骄哂袃煞N配向方向的位相差膜。

2.根據(jù)權利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：該基材的材料是選自纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、醋酸酯系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫系樹脂、聚二氯乙烯系樹脂或甲基丙烯酸系樹脂。

3.根據(jù)權利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：該基材的種類是選自離型膜、偏光板、保護膜、擴散膜、擴散板、導光板、增亮膜、可撓式面板或觸控面板。

4.根據(jù)權利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：該步驟(a)中的光配向?qū)邮怯晒庵庐悩?gòu)型材料所形成。

5.根據(jù)權利要求4所述的位相差膜的制法，其特征在于：該步驟(a)中的光配向?qū)邮怯膳嫉较禈渲纬伞?/p>

6.根據(jù)權利要求4所述的位相差膜的制法，其特征在于：該光配向?qū)釉诓襟E(b)中曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量為不高于160mJ/cm²。

7.根據(jù)權利要求4所述的位相差膜的制法，其特征在于：該光配向?qū)釉诓襟E(b)中曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量的范圍為10-150mJ/cm²。

8.根據(jù)權利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：該步驟(a)中的光配向?qū)邮怯晒庵陆宦?lián)型材料所形成。

9.根據(jù)權利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：該步驟(a)中的光配向?qū)邮怯扇夤鹚狨ハ禈渲纬伞?/p>

10.根據(jù)權利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：該光配向?qū)釉诓襟E(b)中曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量為不高于300mJ/cm²。

11.根據(jù)權利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：該光配向?qū)釉诓襟E(b)中曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量的范圍為20-300mJ/cm²。

12.根據(jù)權利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：該光配向?qū)釉诓襟E(b)中曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量的范圍為20-100mJ/cm²。

13.根據(jù)權利要求1至12中任一權利要求所述的位相差膜的制法，其特征在于：在步驟(c)中，該光配向?qū)悠芈队谠摰诙€性偏極紫外光的累積曝光能量為不低于曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量。

14.根據(jù)權利要求13所述的位相差膜的制法，其特征在于：在步驟(c)中，該光配向?qū)悠芈队谠摰诙€性偏極紫外光的累積曝光能量為不高于500mJ/cm²。

15.根據(jù)權利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：該第一線性偏極紫外光具有的第一偏極方向與該第二線性偏極紫外光具有的第二偏極方向的夾角介于20-90度。

16.根據(jù)權利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：該第一線性偏極紫外光具有的第一偏極方向與該第二線性偏極紫外光具有的第二偏極方向垂直。