[發(fā)明專(zhuān)利]靶及具備該靶的成膜裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210008545.8
• 申請(qǐng)日: 2012-01-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102586745A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巖田寬;金子博
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 住友重機(jī)械工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/34
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/34;C23C14/06;B22F3/10
• 代理公司: 永新專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 周欣

本申請(qǐng)基于2011年1月13日申請(qǐng)的日本專(zhuān)利申請(qǐng)第2011-5201號(hào)主張優(yōu)先權(quán)。在本說(shuō)明書(shū)中援引該申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容。?

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及靶及具備該靶的成膜裝置。?

背景技術(shù)

作為用于成膜裝置的靶，已知有如專(zhuān)利文獻(xiàn)1所示的例如通過(guò)銦等的粘結(jié)劑固定于保持部件(靶電極)的靶(以下示為“結(jié)合靶”)。然而，在這種結(jié)合靶中，若要更換消耗的靶，粘結(jié)于靶的保持部件也需要一同更換。因此，存在進(jìn)行其更換時(shí)需要時(shí)間及成本之類(lèi)的問(wèn)題。?

作為解決這種問(wèn)題的技術(shù)，公開(kāi)有涉及如專(zhuān)利文獻(xiàn)2所示的載置于保持部件的上表面且通過(guò)夾具固定于保持部件(靶托)的靶(以下示為“未結(jié)合靶”)的技術(shù)。?

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)平8-291382號(hào)公報(bào)?

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2004-193083號(hào)公報(bào)?

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的問(wèn)題?

然而，如上述所示的未結(jié)合靶中，由于靶通過(guò)夾具被按壓于保持部件上，因此被夾具按壓的部分需要具有能夠承受該按壓的強(qiáng)度。但是，一般耐破裂性較弱的燒結(jié)體靶很難確保所述強(qiáng)度。因此，燒結(jié)體靶采用通過(guò)由銦等的粘結(jié)劑固定于保持部件的結(jié)合靶，未能消除靶的更換需要時(shí)間及成本之類(lèi)的問(wèn)題。?

本發(fā)明的目的在于提供即使為燒結(jié)體靶也能夠降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本的靶及具備該靶的成膜裝置。?

用于解決問(wèn)題的手段?

為了解決上述課題，本發(fā)明的靶通過(guò)夾具而被固定于保持部件上，其特征在于，該靶為包含金屬粉體和熔點(diǎn)高于金屬的熔點(diǎn)的金屬氧化物粉體的混合物在由t₀＜T＜t₁(其中，在上述公式中，t₀為金屬的熔點(diǎn)，t₁為金屬氧化物的熔點(diǎn)或升華點(diǎn))表示的燒結(jié)溫度T下燒結(jié)而成的低氧化物燒結(jié)體。?

這種靶與不含金屬作為構(gòu)成成分的燒結(jié)體靶相比耐破裂性較高，因此能夠降低因夾具的按壓而損壞靶之虞。其結(jié)果，即使為燒結(jié)體靶，更換靶時(shí)，也無(wú)需更換包含保持部件的整個(gè)靶裝置而能夠僅更換靶，而能夠降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本。?

并且，金屬優(yōu)選為Zn、Sn、Pb、Bi、In、Al及Ga中的任一種。由此，在上述燒結(jié)溫度T的條件下易于燒結(jié)金屬粉體與金屬氧化物粉體的混合物。?

并且，優(yōu)選該燒結(jié)體中，與接觸于保持部件的接觸面平行的面內(nèi)方向上的外側(cè)端部和中央部相比，金屬相對(duì)于金屬氧化物的成分比例較高。由此，能夠形成靶的面內(nèi)方向上的外側(cè)端部的耐破裂性高于中央部的靶。其結(jié)果，能夠提高被夾具按壓的部分的耐破裂性，因此能夠進(jìn)一步降低通過(guò)夾具固定靶時(shí)損壞靶之虞。?

并且，優(yōu)選燒結(jié)體的體積電阻率為0.05Ω·m以下。由此，實(shí)施濺射時(shí)，能夠?qū)械膶?dǎo)電性確保為可實(shí)施基于直流濺射法或交流濺射法的濺射的程度。其結(jié)果，能夠確保穩(wěn)定的放電。?

并且，優(yōu)選燒結(jié)體的燒結(jié)相對(duì)密度為90％以上。“燒結(jié)相對(duì)密度”是指與內(nèi)部沒(méi)有空隙的靶相比的容積的比率。一般若空隙量較多，則靶表面的凹凸變得明顯而成為濺射時(shí)發(fā)生粒子或電弧的原因。這種靶裝置中，由于能夠降低空隙量，因此能夠防止濺射時(shí)發(fā)生粒子或電弧，而能夠生成高品質(zhì)的薄膜。?

并且，構(gòu)成金屬氧化物的金屬元素可為Zn。由此能夠易于形成耐破裂性?xún)?yōu)異的陶瓷靶。?

本發(fā)明的成膜裝置通過(guò)將靶中所含的成膜材料附著于基板來(lái)進(jìn)行成膜，其特征在于，具備：真空容器、在真空容器內(nèi)保持上述靶的保持部件及固定靶和保持部件的夾具。?

這種成膜裝置中，靶與不含單質(zhì)金屬作為構(gòu)成成分的燒結(jié)體靶相比確保耐破裂性，因此能夠通過(guò)夾具固定于保持部件。其結(jié)果，即使為燒結(jié)體靶，更換靶時(shí)，也無(wú)需更換包含保持部件的整個(gè)靶裝置而能夠僅更換靶，并能夠降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本。?

并且，優(yōu)選保持部件與靶之間配置有與保持部件及靶的相互對(duì)置的面接觸的熱傳導(dǎo)性薄膜部件。其中，保持部件有時(shí)使用接觸靶來(lái)冷卻的冷卻板。此時(shí)，即使在靶及保持部件相互接觸的表面上有凹凸時(shí)，由于導(dǎo)電性薄膜部件填滿(mǎn)形成于相互對(duì)置的面之間的空隙，因此也可充分確保靶與保持部件的接觸面積。其結(jié)果，能夠得到靶與保持部件之間的良好的熱傳導(dǎo)性。?

發(fā)明效果?

根據(jù)本發(fā)明的靶及具備該靶的成膜裝置，即使為燒結(jié)體靶，也能夠降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本。?

附圖說(shuō)明

圖1是表示包含本實(shí)施方式所涉及的靶的成膜裝置的結(jié)構(gòu)的側(cè)視截面圖。?

圖2是表示圖1的靶的側(cè)視截面圖。?