[發(fā)明專利]一種藥片盤式負(fù)壓處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210007120.5
• 申請(qǐng)日: 2012-01-11
• 公開（公告）號(hào): CN103202768A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 玄文明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 玄文明
• 主分類號(hào): A61J3/10
• 分類號(hào): A61J3/10
• 代理公司: 武漢楚天專利事務(wù)所 42113
• 代理人: 孔敏

1.一種藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：包括主軸(1)、接藥盤(12)、中間盤(11)、轉(zhuǎn)動(dòng)盤(10)、分氣盤(9)，接藥盤(12)、中間盤(11)與轉(zhuǎn)動(dòng)盤(10)緊固連接后固定在主軸(1)上，分氣盤(19)與轉(zhuǎn)動(dòng)盤(10)緊貼，所述接藥盤(12)上設(shè)有多個(gè)上藥位(24)，所述上藥位(24)的大小略大于藥片，所述中間盤(11)對(duì)應(yīng)所述接藥盤(12)的每一上藥位(24)設(shè)有中間盤氣道(31)，每一上藥位(24)開設(shè)有與中間盤氣道(31)連通的負(fù)壓孔，中間盤氣道(31)的另一端開設(shè)有氣孔(34)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)盤(10)對(duì)應(yīng)所述中間盤氣道(31)的氣孔(34)開設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)盤氣孔(32)，所述分氣盤(9)上設(shè)有呈圓弧狀對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)盤氣孔(12)的旋轉(zhuǎn)路徑的常開氣道(25)。

2.如權(quán)利要求1所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：所述分氣盤(9)上還設(shè)有呈圓弧狀對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)盤氣孔(32)的旋轉(zhuǎn)路徑的控制氣道(26)，所述常開氣道(25)和控制氣道(26)相互隔離。

3.如權(quán)利要求1或2所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：還包括軸承座(13)及設(shè)在軸承座(13)內(nèi)的軸承(8)，軸承(8)被螺釘(18)緊鎖于軸承座(13)內(nèi)，軸承座(13)通過(guò)螺釘(6)固定在安裝板(7)上，軸承(8)套在主軸(1)上。

4.如權(quán)利要求3所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：分氣盤(9)通過(guò)平鍵(17)在軸承座(13)上橫向固定，螺釘(14)依次穿過(guò)圓螺母(15)、軸承座(13)底部凸件、彈簧(16)后抵接在分氣盤(9)上。

5.如權(quán)利要求3所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：在主軸(1)上設(shè)置與軸承座(13)緊密連接的圓螺母(4)和止動(dòng)墊圈(5)。

6.如權(quán)利要求1所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：主軸(1)的后端固定有脈沖盤(3)，脈沖盤(3)的齒峰與接藥盤(12)的上藥位(24)對(duì)應(yīng)一致。

7.如權(quán)利要求1或2所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：所述每一上藥位(24)開設(shè)的與中間盤氣道(31)連通的負(fù)壓孔(33)為一個(gè)，所述負(fù)壓孔(33)直接與所述中間盤氣道(31)連通。

8.如權(quán)利要求1或2所述的藥片盤式負(fù)壓處理裝置，其特征在于：所述每一上藥位(24)開設(shè)的與中間盤氣道(31)連通的負(fù)壓孔(42)為兩個(gè)，所述兩個(gè)負(fù)壓孔(42)分布在上藥位(24)的兩側(cè)，分別通過(guò)一個(gè)氣槽(42)與中間盤(11)的中間盤氣道(31)相連通；上藥位(24)中間開設(shè)第一透光孔(44)，中間盤(11)對(duì)應(yīng)所述第一透光孔(44)的位置開設(shè)有透光孔；接藥盤(12)上每?jī)蓚€(gè)上藥位(24)中間開設(shè)第二透光孔(45)，中間盤(11)對(duì)應(yīng)所述第二透光孔(45)的位置開設(shè)有透光孔。