[發明專利]分析裝置

有效

• 申請號: 201210006886.1
• 申請日: 2012-01-11
• 公開（公告）號: CN102590106A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 金山省一;多田友行;岡田直忠
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝;東芝醫療系統株式會社
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31;G01N21/47;G01N35/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 楊謙;胡建新

1.一種分析裝置，其特征在于，具有：

照射光學部，對反應管內的混合液照射來自光源的光；和

檢測光學部，對透射了所述混合液后的光進行檢測，

所述照射光學部具有：

第一光學元件，在前側焦點位置上配置有所述光源，會聚來自所述光源的光；

第二光學元件，將通過了所述第一光學元件后的光引導到所述反應管；和

入射數值孔徑調整部件，設置在所述第一光學元件的后側，對使來自所述光源的光入射到所述反應管時的數值孔徑進行調整。

2.根據權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，

還具有第一狹縫，所述第一狹縫配置在所述第一光學元件的后側焦點位置上，使透射了所述第一光學元件后的光的一部分通過，

所述入射數值孔徑調整部件是使通過了所述第一狹縫后的光的一部分通過的第二狹縫。

3.根據權利要求2所述的分析裝置，其特征在于，

所述第二狹縫配置在所述第二光學元件的前側焦點位置上。

4.根據權利要求2所述的分析裝置，其特征在于，

所述第二狹縫配置在所述第二光學元件與所述反應管之間。

5.根據權利要求2所述的分析裝置，其特征在于，

所述第二狹縫與所述第二光學元件形成為一個整體。

6.根據權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，

所述入射數值孔徑調整部件是第一狹縫，所述第一狹縫配置在所述第一光學元件的后側焦點位置上，使透射了所述第一光學元件后的光的一部分通過。

7.根據權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，

所述檢測光學部具有配置在所述反應管的后側且調整對通過了所述反應管后的光進行檢測時的數值孔徑的部件。

8.根據權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，

所述檢測光學部具有：

第三光學元件，對透射了所述反應管后的光進行校準；

第三狹縫，使透射了所述第三光學元件后的光的一部分通過；

第四光學元件，會聚通過了所述第三狹縫后的光；和

第四狹縫，使由所述第四光學元件會聚后的光的一部分通過，

所述分析裝置具有：

分光部，對通過了所述第四狹縫后的光進行分光；和

檢測部，對在所述分光部中分光后的光進行檢測。

9.根據權利要求7或8所述的分析裝置，其特征在于，

使來自所述光源的光入射到所述反應管時的數值孔徑，與在所述檢測部中對透射了所述反應管后的光進行檢測時的數值孔徑相等。

10.根據權利要求7或8所述的分析裝置，其特征在于，

使來自所述光源的光入射到所述反應管時的數值孔徑和在所述檢測部中對透射了所述反應管后的光進行檢測時的數值孔徑，分別是0.1以下。

11.根據權利要求10所述的分析裝置，其特征在于，

使來自所述光源的光經由所述第二光學元件入射到所述反應管時的數值孔徑和在所述檢測部中對透射了所述反應管后的光進行檢測時的數值孔徑，分別是0.05以下。

12.根據權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，

所述第二光學元件是凹面鏡。

13.根據權利要求12所述的分析裝置，其特征在于，

對所述凹面鏡入射的光的入射角是10度以下。