[發明專利]金屬掩模板面形測量系統及其測量方法無效
申請號: | 201210006843.3 | 申請日: | 2012-01-11 |
公開(公告)號: | CN103206924A | 公開(公告)日: | 2013-07-17 |
發明(設計)人: | 魏志凌;高小平;張煒平 | 申請(專利權)人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
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地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 金屬 模板 測量 系統 及其 測量方法 | ||
1.一種金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,包括:控制系統,通過軟件自動完成對所述金屬掩模板的測量;測量元件,對所述金屬掩模板板面進行測量,并將測量數據及時反饋回給數據處理系統;數據處理系統,根據測試的數據進行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
2.根據權利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,所述測量元件為非接觸式光學元件。
3.根據權利要求2所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,所述測量元件為激光高度傳感器。
4.根據權利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,所述控制系統控制所述測量元件,對所述金屬掩模板板面進行掃描式測量。
5.根據權利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,所述控制系統控制所述測量元件,對所述金屬掩模板板面的指定區域進行測量。
6.根據權利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,所述數據處理系統在測試進行的過程中,根據測試的數據進行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
7.根據權利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,所述數據處理系統在測試完畢后,根據測試的數據進行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
8.根據權利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統,其特征在于,測量系統還包括顯示器,用于顯示通過數據處理系統處理得到的面形圖。
9.一種使用權利要求1至權利要求8所述的金屬掩模板面形測量系統進行測量的方法。
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