[發明專利]在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法

有效

• 申請號: 201210005692.X
• 申請日: 2012-01-09
• 公開（公告）號: CN102584027A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 毛磊;肖博智;陳亞君;楊勇
• 申請（專利權）人: 寧波永新光學股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34;G02B1/11
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226
• 代理人: 程曉明

技術領域

本發明涉及一種在光學玻璃表面鍍增透膜的方法，尤其是涉及一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法。?

背景技術

在人們的日常生活中的許多場合，均會遇到使用小尺寸光學窗口的情況。為了提高這種小尺寸光學窗口器件強度，通常使用鋼化玻璃作為基片，并通過在其表面化鍍增透膜的方法來提高它的光學透過率。但是，人們在日常的生產加工過程中發現，由于這些光學窗口器件的尺較小，因此基片通常是使用光學玻璃進行化學鋼化后制成的。而通過鍍膜制成光學窗口器件成品后其鋼化強度通常會受到一定程度的破壞。我們使用目前常用的三種鋼化檢測方法對一塊經化學鋼化后的光學玻璃樣品在單面鍍膜前后的鋼化強度進行檢測后發現，除鋼化深度和表面應力沒有明顯變化外，彎曲強度由1201Mpa下降到942Mpa，抗跌落高度由1500毫米下降到600毫米。?

發明內容?

本發明所要解決的技術問題是提供一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，能夠在實現光學性能的前提下，保證對化學法鋼化的光學玻璃基片的鋼化性能具有較小的影響。?

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案為：一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，包括用光學鍍膜機在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面鍍增透膜層，在所述的光學玻璃基片的表面與所述的增透膜層之間設置一層緩沖膜層，根據所述的增透膜層的應力特性，將所述的緩沖膜層的應力特性設置成與所述的增透膜層的應力特性相反，所述的緩沖膜層的應力大小等于所述的增透膜層的應力的大小±5％。?

將所述的增透膜層的應力設置成張應力，所述的緩沖膜層的應力設置成壓應力。?

用厚度為130～180nm的SiO₂層構成所述的緩沖膜層，用至少兩層復合膜層構成所述的增透膜層，所述的復合膜層采用先鍍一層高折射率層，再鍍一層低折射率層的方式構成，控制所述的高折射率層的厚度為所述的復合膜層厚度的5％～15％。?

所述的緩沖膜層的厚度最好為150nm。?

所述的高折射率層使用HfO₂、ZrO₂或Ti₃O₅材料制成，所述的低折射率層使用SiO₂材料制成。?

與現有技術相比，本發明的優點在于通過在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面與增透膜層之間設置一層緩沖膜層，并根據增透膜層的應力特性，將緩沖膜層的應力特性設置成與增透膜層的應力特性相反，緩沖膜層的應力大小等于增透膜層的應力的大小±5％，可以有效地防止鍍膜對光學窗口器件的鋼化強度造成的破壞；而根據鋼化玻璃本身的應力特性，最好將增透膜層的應力設置成張應力，將緩沖膜層的應力設置成壓應力。?

具體實施方式

以下結合實施例對本發明作進一步詳細描述。?

實施例一：一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層150nm的SiO₂緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層HfO₂層，再鍍一層SiO₂層的方式構成，控制HfO₂層的厚度為復合膜層厚度的6％。?

實施例二：一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層130nm的SiO₂緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層HfO₂層，再鍍一層SiO₂層的方式構成，控制HfO₂層的厚度為復合膜層厚度的15％。?

實施例三：一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層18Onm的SiO₂緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層HfO₂層，再鍍一層SiO₂層的方式構成，控制HfO₂層的厚度為復合膜層厚度的13％。?