1.一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎㄓ霉鈱W(xué)鍍膜機(jī)在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面鍍?cè)鐾改樱涮卣髟谟谠谒龅墓鈱W(xué)玻璃基片的表面與所述的增透膜層之間設(shè)置一層緩沖膜層，根據(jù)所述的增透膜層的應(yīng)力特性，將所述的緩沖膜層的應(yīng)力特性設(shè)置成與所述的增透膜層的應(yīng)力特性相反，所述的緩沖膜層的應(yīng)力大小等于所述的增透膜層的應(yīng)力的大小±5％。

2.如權(quán)利要求1所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟趯⑺龅脑鐾改拥膽?yīng)力設(shè)置成張應(yīng)力，所述的緩沖膜層的應(yīng)力設(shè)置成壓應(yīng)力。

3.如權(quán)利要求1所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟谟煤穸葹?30～180nm的SiO₂層構(gòu)成所述的緩沖膜層，用至少兩層復(fù)合膜層構(gòu)成所述的增透膜層，所述的復(fù)合膜層采用先鍍一層高折射率層，再鍍一層低折射率層的方式構(gòu)成，控制所述的高折射率層的厚度為所述的復(fù)合膜層厚度的5％～15％。

4.如權(quán)利要求3所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟谒龅木彌_膜層的厚度為150nm。

5.如權(quán)利要求3或4所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟谒龅母哒凵渎蕦邮褂肏fO₂、ZrO₂或Ti₃O₅材料制成，所述的低折射率層使用SiO₂材料制成。