[發(fā)明專利]電漿反應(yīng)方法及裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210004412.3
• 申請日: 2012-01-09
• 公開（公告）號: CN102625562A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 賴秉豊
• 申請（專利權(quán)）人: 賴秉豊
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 12203
• 代理人: 崔鋼

1.一種電漿反應(yīng)方法，其特征在于，在密閉空間內(nèi)，裝設(shè)該至少一組導(dǎo)電回圈，并在該密閉空間內(nèi)充填反應(yīng)流體，借由對該至少一組導(dǎo)電回圈施加電場或/及磁場，使該密閉空間內(nèi)的導(dǎo)電回圈與反應(yīng)流體互相作用而在該密閉空間內(nèi)產(chǎn)生電漿反應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電漿反應(yīng)方法，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈具有單組。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電漿反應(yīng)方法，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈具有數(shù)組。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電漿反應(yīng)方法，其特征在于，所述數(shù)組導(dǎo)電回圈進(jìn)一步彼此對應(yīng)設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的電漿反應(yīng)方法，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈或數(shù)組導(dǎo)電回圈之中的至少一組導(dǎo)電回圈，具有至少一支端子自密閉空間內(nèi)向外穿出。

6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的電漿反應(yīng)方法，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈或數(shù)組導(dǎo)電回圈之中的至少一組導(dǎo)電回圈，具有至少一支端子被完全封閉在密閉空間內(nèi)，并且不與密閉空間外接觸。

7.一種電漿反應(yīng)裝置，其特征在于，包括：

密閉空間；

至少一組導(dǎo)電回圈，裝設(shè)于上述密閉空間內(nèi)，并在該密閉空間內(nèi)充填反應(yīng)流體，借由對該至少一組導(dǎo)電回圈施加電場或/及磁場，使該密閉空間內(nèi)的導(dǎo)電回圈與反應(yīng)流體互相作用而在該密閉空間內(nèi)產(chǎn)生電漿反應(yīng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電漿反應(yīng)裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈具有單組。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電漿反應(yīng)裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈具有數(shù)組。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電漿反應(yīng)裝置，其特征在于，所述數(shù)組導(dǎo)電回圈進(jìn)一步彼此對應(yīng)設(shè)置。

11.根據(jù)權(quán)利要求7、8、9或10所述的電漿反應(yīng)裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈或數(shù)組導(dǎo)電回圈之中的至少一組導(dǎo)電回圈，各自具有至少一支端子自密閉空間內(nèi)向外穿出。

12.根據(jù)權(quán)利要求7、8、9或10所述的電漿反應(yīng)裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電回圈或數(shù)組導(dǎo)電回圈之中的至少一組導(dǎo)電回圈，具有至少一支端子被完全封閉在密閉空間內(nèi)，并且不與密閉空間外接觸。