[發(fā)明專利]光催化抗菌聚四氟乙烯微孔膜的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210002730.6
• 申請日: 2012-01-06
• 公開（公告）號: CN102527248A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王中華;張建軍;俞錦偉;吳輝;周明明;張振剛;曹建根
• 申請（專利權(quán)）人: 湖州森諾氟材料科技有限公司
• 主分類號: B01D69/02
• 分類號: B01D69/02;B01D71/36;B01D67/00
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246
• 代理人: 連圍

1.光催化抗菌聚四氟乙烯微孔膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

①混料：將納米銀抗菌劑與聚四氟乙烯分散樹脂粉末混合，加入烴類助擠劑，在50～70℃下靜置24小時，使助擠劑充分滲透入納米銀抗菌劑和聚四氟乙烯分散樹脂的混合物，形成物料；

其中，納米銀抗菌劑、聚四氟乙烯分散樹脂粉末及烴類助擠劑的重量比為0.05～0.1∶1∶0.25～0.3；

②制坯：將物料在40～50℃下預壓成Ф120mm的圓柱形坯；

③擠出：將圓柱形坯放置在推壓機上，在55～60℃條件下推壓成Ф12～Ф22mm的圓條；

④壓延：將圓條放置在壓延機上，在70℃條件下壓延成含油基帶；

⑤脫脂處理后縱向拉伸：將含油基帶在260℃～280℃下脫脂，去除助擠劑，并進行第一次縱向拉伸，拉伸倍數(shù)為3～6倍后成為脫脂基帶；

⑥表面處理后縱向拉伸：將脫脂基帶用納米二氧化鈦進行表面處理，在280℃～300℃下進行第二次縱向拉伸，拉伸倍率為4～8倍，獲得縱向拉伸基礎(chǔ)膜；

⑦橫向拉伸后燒結(jié)固化：將縱向拉伸基礎(chǔ)膜，在120℃～200℃下橫向拉伸，然后在350℃～380℃燒結(jié)固化，即獲得光催化抗菌聚四氟乙烯微孔膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化抗菌聚四氟乙烯微孔膜的制備方法，其特征在于：所述納米銀抗菌劑為白色粉末，平均粒徑小于100nm，在微孔膜中的重量比為0.3％～1％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化抗菌聚四氟乙烯微孔膜的制備方法，其特征在于：所述納米二氧化鈦為親油性二氧化鈦溶液。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化抗菌聚四氟乙烯微孔膜的制備方法，其特征在于：所述納米二氧化鈦可以是單一的二氧化鈦，也可以是二氧化鈦和其它金屬氧化物的混合物。