[發明專利]全自動膠膜涂覆、顯影裝置有效
| 申請號: | 201210001047.0 | 申請日: | 2012-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN103199031A | 公開(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發明(設計)人: | 王沖 | 申請(專利權)人: | 沈陽芯源微電子設備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L33/00;G03F7/16;G03F7/30 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
| 地址: | 110168 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 全自動 膠膜 顯影 裝置 | ||
1.一種全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:包括機器人(5)、盒站(11)、獨立對中單元(10)及晶片處理單元,其中盒站(11)位于獨立對中單元(10)的上方,所述機器人(5)位于裝置的中心,所述盒站(11)及晶片處理單元安裝在機器人(5)的周圍,所述機器人(5)通過機械手將晶片送到周圍的各晶片處理單元上。
2.按權利要求1所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述晶片處理單元設有1~7個工位,包括熱處理單元和離心單元,所述熱處理單元和離心單元可互換。
3.按權利要求2所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述熱處理單元為四層結構,該結構的每一層上放置高溫冷熱盤單元、低溫熱盤、表面曾粘單元或獨立對中機構中的一種。
4.按權利要求2所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述離心單元包括真空吸盤(20)、真空吸盤升降氣缸(18)、中空軸電機(19)、膠杯(21)、膠臂(22)、膠臂升降氣缸(24)、膠臂旋轉馬達(25)及藥業控制閥(26),其中膠杯(21)位于真空吸盤(20)的下方,所述真空吸盤(20)分別與真空吸盤升降氣缸(18)及中空軸電機(19)連接,以實現真空吸盤(20)的升降或旋轉完成涂膠顯影;所述膠臂(22)位于真空吸盤(20)的上方、并分別與膠臂升降氣缸(24)及膠臂旋轉馬達(25)連接,以實現膠臂(22)的升降或旋轉,所述膠臂(22)通過藥業控制閥(26)控制光刻膠。
5.按權利要求4所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述離心單元的上方設有保濕盒(23),完成工藝后的膠臂(22)上的膠嘴通過膠臂旋轉馬達(25)的驅動放入所述保濕盒(23)中;所述離心單元的下方設有廢液排放口(17),該廢液排放口(17)與膠杯(21)連通,膠杯(21)收集的廢液通過所述廢液排放口(17)排出。
6.按權利要求1所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述盒站(11)包括片盒(30)、片盒限位塊(31)及盒站底板(29),其中片盒(30)位于盒站底板(29)上、并通過片盒限位塊(31)定位。
7.按權利要求1所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述獨立對中單元(10)包括對中氣缸(27)、對中承片臺(28)、對中夾具(32)及對中承片臺升降氣缸(33),其中對中承片臺(28)下方連接對中承片臺升降氣缸(33),所述對中夾具(32)位于對中承片臺(28)的上方、并與對中氣缸(27)連接。
8.按權利要求1所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述裝置同時兼容2-6英寸圓形標準晶片。
9.按權利要求1所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述裝置預留有Interface接口,該接口與工廠自動化系統相連接。
10.按權利要求1所述的全自動膠膜涂覆、顯影裝置,其特征在于:所述裝置連接實現全天候不間斷供液的獨立化學品供應系統。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





