[發明專利]輻射源有效
| 申請號: | 201180072807.0 | 申請日: | 2011-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN103733735A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | A·凱姆鵬;E·魯普斯特拉;C·瓦格納;H·泰根博世;G·斯溫克爾斯 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | H05G2/00 | 分類號: | H05G2/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 張啟程 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 輻射源 | ||
1.一種輻射源,包括:
噴嘴,配置成沿著軌跡朝向等離子體形成位置引導燃料液滴的流;
激光器,配置成輸出激光輻射,所述激光輻射在等離子體形成位置處被引導到燃料液滴上以在使用中生成用于產生輻射的等離子體;和
捕捉裝置,布置成捕捉穿過等離子體形成位置的燃料液滴,所述捕捉裝置包括:
容器,被構造成容納流體;
驅動器,被構造且布置成驅動所述流體以使得流體移動;
所述捕捉裝置被配置成使得在使用中燃料液滴入射到移動的流體上。
2.根據權利要求1所述的輻射源,其中所述捕捉裝置還包括一表面,所述驅動器被布置成沿著所述表面、在所述表面上或經過所述表面驅動流體,所述捕捉裝置被布置成使得在使用中燃料液滴入射到沿著所述表面、在所述表面上或經過所述表面被驅動的流體上。
3.根據權利要求2所述的輻射源,其中所述被沿著所述表面、在所述表面上或經過所述表面被驅動的流體被相對于液滴的軌跡傾斜。
4.根據權利要求3所述的輻射源,其中所述表面被相對于液滴的軌跡傾斜,所述驅動器被配置成至少幫助向下且沿著所述表面驅動流體,以在所述表面上形成流體的膜,所述捕捉裝置被布置成使得在使用中燃料液滴入射到所述流體的膜上。
5.根據權利要求3所述的輻射源,其中所述驅動器被配置成在所述表面上驅動流體以形成流體的波,所述捕捉裝置被布置成使得在使用中所述燃料液滴入射到所述流體的波上。
6.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源,其中所述驅動器包括泵。
7.根據權利要求1所述的輻射源,其中所述容器為具有布置成容納液滴的開口的大致管狀形狀。
8.根據權利要求7所述的輻射源,其中所述驅動器是被構造以旋轉管狀容器的旋轉機構。
9.根據權利要求8所述的輻射源,其中所述旋轉機構被構造以足夠快速地旋轉所述管,以確保流體駐留在所述管狀容器的內表面上和/或在內表面上經過,所述捕捉裝置被布置成使得在使用中所述燃料液滴入射到所述流體上,所述流體駐留在所述管狀容器的內表面上和/或經過所述內表面。
10.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源,其中所述噴嘴被配置成沿著軌跡引導燃料液滴的流,所述軌跡是大致水平的或大致豎直的,或所述噴嘴被配置成沿著具有水平分量的軌跡引導燃料液滴的流或沿著具有豎直的分量的軌跡引導燃料液滴的流。
11.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源,其中所述流體的材料與形成燃料液滴的材料相同或包括與形成燃料液滴的材料相同的材料,或其中所述流體是燃料的載體。
12.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源,其中所述捕捉裝置包括加熱器或能夠熱連接至加熱器,所述加熱器配置成加熱所述流體和/或被捕捉的液滴以將流體和/或被捕獲的液滴保持成流體形式。
13.根據前述權利要求中任一項所述的輻射系統,其中所述捕捉裝置與噴嘴流體連接,使得被捕捉的液滴能夠被引導至噴嘴和通過噴嘴被引導返回。
14.一種光刻設備,包括:
照射系統,構造成提供輻射束;
圖案形成裝置,構造成在輻射束的橫截面中將圖案賦予輻射束;
襯底保持器,構造且布置成保持襯底;
投影系統,構造且布置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上;和
其中所述光刻設備還包括根據前述權利要求中任一項所述的輻射源或與根據前述權利要求中任一項所述的輻射源相連接。
15.一種捕捉在輻射源中所使用的燃料液滴的方法,所述輻射源包括:
噴嘴,配置成沿著軌跡朝向等離子體形成位置引導燃料液滴的流;
激光器,配置成輸出激光輻射,所述激光輻射在等離子體形成位置處被引導到燃料液滴上以在使用中生成用于產生輻射的等離子體;以及
所述方法包括:
驅動流體以導致在所述流體中的移動;和
朝向移動的流體引導所述燃料液滴。
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