[發明專利]食品以及用于烘焙的方法和設備

在審

• 申請號: 201180056412.1
• 申請日: 2011-09-23
• 公開（公告）號: CN103220912A
• 公開（公告）日: 2013-07-24
• 發明（設計）人: J·W·奧爾弗;P·J·多梅尼庫奇;J·埃梅里
• 申請（專利權）人: 埃米希爾德股份有限公司;AMF自動化技術有限責任公司
• 主分類號: A21B1/42
• 分類號: A21B1/42
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周家新;蔡洪貴

1.一種制作食品的過程，所述過程包括：

提供爐，所述爐具有：

殼體，其包括頂部、底部、兩個相對的側壁和開口，所述開口借以形成至少一個內部加熱區，以在加熱區中接收爐烹飪配件；

用于向加熱區提供熱量的加熱裝置；

設置在至少一個襯底表面上的高輻射熱保護層，其中，

襯底表面包括設置在爐殼體內的金屬或陶瓷表面；和

所述高輻射熱保護層包括：

大約5%至大約30%的無機粘合劑、大約45%至大約92%的至少一種填料和大約1%至大約25%的一種或多種輻射劑；或者

大約5%至大約35%的膠體氧化硅、膠體氧化鋁或它們的組合，大約23%至大約79%的至少一種填料，以及大約1%至大約25%的一種或多種輻射劑；

提供用于在加熱過程中保持混合的配料或準備的面團的烹飪配件；

在烹飪配件中保持所述混合的配料或準備的面團；和

在至少一個加熱區中加熱烹飪配件，直到制作好食品。

2.如權利要求1所述的制作食品的過程，其中：

熱保護層還包括大約1.0%至大約5.0%的穩定劑；

熱保護層還包括表面活性劑或分散劑；

熱保護層還包括著色劑；

無機粘合劑從由堿金屬/堿土金屬硅酸鹽構成的組中選擇，所述堿金屬/堿土金屬硅酸鹽從由硅酸鈉、硅酸鉀、硅酸鈣和硅酸鎂構成的組中選擇；

填料從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鎂、氧化鈣和氧化硼構成的組中選擇；

所述一種或多種輻射劑從由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢、二硼化鋯、亞鉻酸銅和金屬氧化物構成的組中選擇；或

它們的組合；

穩定劑從由膨潤土、高嶺土、鎂鋁硅酸鹽粘土、片狀氧化鋁和穩定性氧化鋯構成的組中選擇；

熱保護層為大約1密耳（大約25微米（μ））至大約4密耳（大約100μ）厚；或

它們的組合。

3.如權利要求1所述的過程，其中：

熱保護層包含：

a.大約5%至大約30%的無機粘合劑，所述無機粘合劑從由堿金屬/堿土金屬硅酸鹽構成的組中選擇，所述堿金屬/堿土金屬硅酸鹽從由硅酸鈉、硅酸鉀、硅酸鈣、硅酸鎂和聚硅酸鹽構成的組中選擇；大約45%至大約92%的至少一種填料，所述填料從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鎂、氧化鈣和氧化硼構成的組中選擇；和大約1%至大約25%的一種或多種輻射劑，所述輻射劑從由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢、二硼化鋯、亞鉻酸銅和金屬氧化物構成的組中選擇；

b.大約5%至大約35%的膠體氧化硅、膠體氧化鋁或它們的組合；大約23%至大約79%的從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鎂、氧化鈣和氧化硼構成的組中選擇的至少一種填料；和大約1%至大約25%的從由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢、二硼化鋯、亞鉻酸銅和金屬氧化物構成的組中選擇的一種或多種輻射劑；

c.大約5%至大約30%的無機粘合劑，所述無機粘合劑從由堿金屬/堿土金屬硅酸鹽構成的組中選擇，所述堿金屬/堿土金屬硅酸鹽從由硅酸鈉、硅酸鉀、硅酸鈣、硅酸鎂和聚硅酸鹽構成的組中選擇；大約45%至大約92%的從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鎂、氧化鈣和氧化硼構成的組中選擇的至少一種填料；大約1%至大約25%的從由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢、二硼化鋯、亞鉻酸銅和金屬氧化物構成的組中選擇的一種或多種輻射劑；和大約1%至大約5%的從由膨潤土、高嶺土、鎂鋁硅酸鹽粘土、片狀氧化鋁和穩定性氧化鋯構成的組中選擇的穩定劑；

d.大約5%至大約35%的膠體氧化硅、膠體氧化鋁或它們的組合；大約23%至大約79%的從由二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鎂、氧化鈣和氧化硼構成的組中選擇的至少一種填料；大約1%至大約25%的從由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢、二硼化鋯、亞鉻酸銅和金屬氧化物構成的組中選擇的一種或多種輻射；和大約1.5%至大約5.0%的從由膨潤土、高嶺土、鎂鋁硅酸鹽粘土、片狀氧化鋁和穩定性氧化鋯構成的組中選擇的穩定劑；

e.大約10%至大約30%的硅酸鈉，大約50%至大約79%的二氧化硅粉末，和大約4%至大約15%的從由氧化鐵、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化鉬、二硅化鎢和二硼化鋯構成的組中選擇的一種或多種輻射劑；

f.大約10%至大約30%的硅酸鈉，大約50%至大約79%的二氧化硅粉末，大約4%至大約15%的從由氧化鐵、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化鉬、二硅化鎢和二硼化鋯構成的組中選擇的一種或多種輻射劑，和大約1%至大約5%的從由膨潤土、高嶺土、鎂鋁硅酸鹽粘土、片狀氧化鋁和穩定性氧化鋯構成的組中選擇的穩定劑；

g.大約10%至大約30%的膠體氧化硅，大約50%至大約79%的二氧化硅粉末，和大約2%至大約15%的從由氧化鐵、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢和二硼化鋯構成的組中選擇的一種或多種輻射劑；或

h.大約10%至大約30%的膠體氧化硅，大約50%至大約79%的二氧化硅粉末，大約2%至大約15%的從由氧化鐵、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化鉬、二硅化鎢和二硼化鋯構成的組中選擇的一種或多種輻射劑，和大約1.5%至大約5.0%的從由膨潤土、高嶺土、鎂鋁硅酸鹽粘土、片狀氧化鋁和穩定性氧化鋯構成的組中選擇的穩定劑。