[發(fā)明專利]食品以及用于烘焙的方法和設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201180056412.1
• 申請(qǐng)日: 2011-09-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103220912A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·W·奧爾弗;P·J·多梅尼庫(kù)奇;J·埃梅里
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 埃米希爾德股份有限公司;AMF自動(dòng)化技術(shù)有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): A21B1/42
• 分類號(hào): A21B1/42
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 周家新;蔡洪貴

背景技術(shù)

爐和在爐中制作的食品已經(jīng)公知了幾千年。烘焙包括面包在內(nèi)的食品已經(jīng)存在幾千年。存在許多不同種類的用于烹飪和烘焙的爐。家用爐包括傳統(tǒng)爐和對(duì)流爐和較小的器具例如多士焗爐等。商用爐包括在餐館中使用的那些爐和在廣泛的商業(yè)食品生產(chǎn)中使用的那些爐。用于餐館的爐包括轉(zhuǎn)爐、擱架式爐、對(duì)流爐、多層柜式爐、披薩爐、蒸汽管爐等。用于商業(yè)食品生產(chǎn)的爐包括直接燃燒式隧道爐、鋼帶爐、鋼板爐、皮塔餅爐、直接燃燒托盤式爐、間接燃燒式隧道爐和沖擊式爐等。所有這些爐在本領(lǐng)域中是眾所周知的，且對(duì)于它們的特殊的用戶或商業(yè)場(chǎng)合具有許多優(yōu)點(diǎn)。爐直接地或間接地被加熱。熱源可以是氣體、油、電或其他可燃材料。爐中的熱量可通過(guò)電的方式或通過(guò)使用可燃流體產(chǎn)生。商用烹飪爐壁的壁通常是金屬的，但也可被涂覆或以分層的方式設(shè)有反射或折射材料，包括不粘層和瓷料。

在所有情況下，令人滿意的多士焗爐難以制造。遍布大部分爐（不管是消費(fèi)的還是商用的）的內(nèi)部烹飪區(qū)域產(chǎn)生“熱點(diǎn)”和“冷點(diǎn)”，這使得熱量非均勻地施加到被烘焙的食品，且降低了產(chǎn)量。已經(jīng)做出多種努力試圖通過(guò)提供相對(duì)于加熱元件連續(xù)地移動(dòng)正在烹飪的食品的轉(zhuǎn)動(dòng)支撐件、帶和輥?zhàn)觼?lái)消除商用中的這種問(wèn)題。而且，已經(jīng)做出多種努力試圖通過(guò)改變爐的壁中使用的材料以及通過(guò)利用被設(shè)計(jì)用于主動(dòng)地調(diào)節(jié)爐內(nèi)的熱特性的控制器針對(duì)地監(jiān)測(cè)溫度來(lái)消除消費(fèi)爐中的與預(yù)熱麻煩和爐清潔相關(guān)的非均勻加熱問(wèn)題。類似的主動(dòng)控制器也可用在商用場(chǎng)合中。然而，商用和消費(fèi)家用的傳統(tǒng)爐的烹飪區(qū)域內(nèi)的非均勻熱量的問(wèn)題依然存在。在大部分的爐中生產(chǎn)的烘焙食品中的一些不可避免地被非均勻地烹飪，且在商用場(chǎng)合，這可產(chǎn)生非均勻烹飪的食品和/或由于欠烹飪或過(guò)烹飪而大致食品損失。

期望獲得在整個(gè)內(nèi)部烹飪區(qū)域或烹飪區(qū)均提供一致的熱量的爐。期望提供均勻加熱的烹飪區(qū)域來(lái)最少化必須丟棄的已被制作的食品的量。過(guò)去已經(jīng)做出多種努力來(lái)試圖解決這種問(wèn)題。

已經(jīng)獲知爐內(nèi)表面的輻射效應(yīng)影響烹飪過(guò)程。美國(guó)專利申請(qǐng)No.2010/006,559公開(kāi)了一種消費(fèi)爐，其具有設(shè)有不同的涂層的元件，所述不同的涂層具有變化的輻射特性，可選地包括陶瓷涂層，其被設(shè)計(jì)成便于在一側(cè)烘焙、在另一側(cè)燒炙。

在現(xiàn)有技術(shù)中已知具有期望的輻射特性的烹飪盤、尤其是包括微波烹飪?nèi)萜鞯氖褂谩Ｍǔ＃@種發(fā)明已經(jīng)涉及簡(jiǎn)單的暗漆、表面碳化、瓷料或陶瓷表面。作為一個(gè)例子，1963年2月19日授權(quán)的美國(guó)專利No.3,078,006公開(kāi)了一種被涂覆有硅樹(shù)脂的金屬烘焙模架，其具有不粘特性和改善的輻射熱吸收特性，其中，少量的碳被包含在硅樹(shù)脂涂層中。盡管進(jìn)行了商業(yè)努力，但在該爐中烘焙的餅干片根據(jù)它們?cè)谂腼儏^(qū)域內(nèi)的位置通常導(dǎo)致一些餅干相對(duì)于其他餅干被更多地烹飪，不管使用的盤如何。

已知控制在烘焙過(guò)程中爐內(nèi)的熱環(huán)境的努力和具有期望的熱特性的盤。還已知提供了部分地通過(guò)具有多個(gè)烹飪區(qū)操作的爐。一些爐的壁已被覆蓋有陶瓷、瓷料、鋁、暗漆等，以在烹飪區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生期望的溫度或便于清潔爐的側(cè)面。其他爐簡(jiǎn)單地具有暴露的金屬表面。

類似地，烹飪盤已被修改，以產(chǎn)生期望的熱特性和便于清潔盤的烹飪區(qū)域。簡(jiǎn)單的金屬擱架、金屬輥?zhàn)雍徒饘佥斔蛶ǔＳ糜谂鋫溆邢鄳?yīng)的擱架、輥?zhàn)印У纳逃脿t中。

2004年11月16日授權(quán)的美國(guó)專利No.6,818,869公開(kāi)了一種多面板或多層柜式爐，其采用單獨(dú)控制來(lái)組合傳導(dǎo)和輻射加熱面板，且提供了在各種面板之間具有1-5個(gè)不同的烹飪區(qū)的選項(xiàng)。

2001年5月8日授權(quán)的美國(guó)專利No.6,229,117公開(kāi)了一種面包返鮮爐，其具有內(nèi)襯，該內(nèi)襯是回彈的熔融氧化硅泡沫，且成非多孔陶瓷的形式的熔融氧化硅制成的托盤與該爐一起使用。

1979年8月14日授權(quán)的美國(guó)專利No.4,164,643公開(kāi)了一種能量高效的雙輻射爐系統(tǒng)，其中，公開(kāi)了具有E=0.79的輻射率的黑色涂覆的鋁盤；然而，在該系統(tǒng)中使用的爐具有爐襯，該爐襯具有高反射性金屬和E=0.05水平上的輻射率值。

迫切期望獲得具有均勻的熱分布的能量高效的爐。仍存在由于非均勻和不可預(yù)測(cè)的爐性能而導(dǎo)致食物損失的問(wèn)題。期望具有這樣一種爐，該爐將在烹飪區(qū)內(nèi)均勻地加熱，以可靠地和一致地產(chǎn)生大批量的相同的被烹飪的食品。

發(fā)明內(nèi)容

本設(shè)計(jì)涉及食品和一種用于烹飪、尤其是烘焙食品的方法和設(shè)備。具體地講，本設(shè)計(jì)涉及一種用于在這樣的爐中烹飪食品的方法或過(guò)程和由此生產(chǎn)的食品，所述爐具有高輻射熱保護(hù)層，所述高輻射熱保護(hù)層設(shè)置在爐的金屬和陶瓷內(nèi)表面上，所述爐具有設(shè)置在其金屬內(nèi)表面上的高輻射熱保護(hù)層。