[發(fā)明專利]氣體擦拭裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180052048.1 | 申請日: | 2011-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN103180479A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 古賀慎一;福山智大 | 申請(專利權(quán))人: | 日新制鋼株式會(huì)社 |
| 主分類號: | C23C2/20 | 分類號: | C23C2/20 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會(huì)華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體 擦拭 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種抑制濺沫向鋼帶附著的氣體擦拭裝置。
背景技術(shù)
迄今為止,公知有如下氣體擦拭裝置:在通過向浸漬于熔融金屬中的鋼帶吹送氣體來控制附著于鋼帶的鍍層厚度的氣體擦拭裝置中,以防止鋼帶的表面的粗糙為目的,設(shè)置了密封箱。
此種氣體擦拭裝置能夠通過利用密封箱包圍鋼帶和噴射氣體的氣體擦拭噴嘴并且將密封箱內(nèi)的氧濃度控制在規(guī)定值內(nèi)(例如1%以內(nèi))來防止鋼帶的表面的粗糙。但是,若與未設(shè)置密封箱的氣體擦拭裝置相比較,設(shè)置了密封箱的氣體擦拭裝置中的濺沫向鋼帶的附著變得顯著,其結(jié)果,存在有導(dǎo)致濺沫斑點(diǎn)圖案的個(gè)數(shù)增加這樣的問題。
因此,通過在例如專利文獻(xiàn)1所公開的氣體擦拭裝置中具有圍繞體、一對隔板以及擦拭氣體排出口來謀求抑制濺沫向鋼帶的附著,該圍繞體包圍帶狀體(鋼帶)和氣體擦拭噴嘴并具有該帶狀體的出口部,該一對隔板以隔著該帶狀體相對的方式配置,并以與上述氣體擦拭噴嘴的至少1個(gè)下端面相接觸的方式配置于該圍繞體內(nèi),并以留出供上述帶狀體行進(jìn)的開口部的方式將該圍繞體分離并劃分為下部空間和配置有上述氣體擦拭噴嘴的上部空間,該擦拭氣體排出口與上述圍繞體的下部空間連通,并與吸氣部件、排氣部件連接。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開昭62-193671號公報(bào)
但是,由于與其他的Zn系鍍層鋼板相比,使用了在Zn中適量地含有Al和Mg的鍍液的熔融Zn-Al-Mg系鍍層鋼板的耐腐蝕性優(yōu)異,因此近年來在建材、土木建筑、住宅、電機(jī)等工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用事例增加。
在這樣的熔融Zn-Al-Mg系鍍層鋼板的工業(yè)制造中,當(dāng)然要求所獲得的熔融鍍層鋼板具有優(yōu)異的耐腐蝕性,還要求能夠在較高的生產(chǎn)率的基礎(chǔ)上制造耐腐蝕性和表面外觀良好的帶成品。
在Zn-Al-Mg的三元平衡狀態(tài)圖上,發(fā)現(xiàn)Al為大致4重量%左右,Mg為大致3重量%左右,熔點(diǎn)最低的三元共晶點(diǎn)(熔點(diǎn)=343℃)。但是,在采用了該三元共晶點(diǎn)附近的浴組成的情況下,在鍍層的組織中產(chǎn)生有Zn11Mg2系的相(Al/Zn/Zn11Mg2的三元共晶的基體本身、在該基體中混合有〔Al初晶〕而成的Zn11Mg2系的相、或/和在該基體中混合有〔Al初晶〕與〔Zn單相〕而成的Zn11Mg2系的相)局部地結(jié)晶的現(xiàn)象。該已局部地結(jié)晶的Zn11Mg2系的相比Zn2Mg系的相易于變色,若預(yù)先進(jìn)行放置,則該部分形成為非常醒目的色調(diào),導(dǎo)致熔融Zn-Al-Mg系鍍層鋼板的表面外觀顯著惡化。此外,在該Zn11Mg2系的相局部地結(jié)晶的情況下,也產(chǎn)生有該結(jié)晶部分優(yōu)先被腐蝕的現(xiàn)象。由于與其他的Zn系鍍層鋼板相比,熔融Zn-Al-Mg系鍍層鋼板擁有具有光澤感的美麗的表面外觀,因此即使是微小的斑點(diǎn)圖案也會(huì)很醒目,從而導(dǎo)致產(chǎn)品價(jià)值顯著下降。
能夠通過將鍍液的液溫和鍍后的冷卻速度控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)來防止熔融Zn-Al-Mg系鍍層鋼板中的Zn11Mg2系的相的局部的結(jié)晶(例如,日本特開平10-226865)。但是,本發(fā)明人們發(fā)現(xiàn)如下兩種情況:即使是在將上述的條件控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)的情況下,也會(huì)因在密封箱內(nèi)由氣體擦拭所產(chǎn)生的濺沫附著于鍍層金屬處于未凝固狀態(tài)的氣體擦拭后的鋼帶而導(dǎo)致Zn11Mg2系的相結(jié)晶,產(chǎn)生有斑點(diǎn)圖案的情況,以及由于在濺沫附著于鍍層金屬處于未凝固狀態(tài)的氣體擦拭前的鋼帶的情況下進(jìn)行再熔融,因此未產(chǎn)生斑點(diǎn)圖案的情況。
為了抑制濺沫向氣體擦拭后的鋼帶附著,需要抑制濺沫朝向比氣體擦拭噴嘴的噴嘴面(將彼此相對配置的氣體擦拭噴嘴的頂端部彼此連結(jié)起來的面)靠上方的鋼帶的通道蔓延。為了抑制濺沫朝向比噴嘴面靠上方的鋼帶的通道蔓延,優(yōu)選的是,在密封箱內(nèi)密封除了相對配置的氣體擦拭噴嘴之間以外的所有部位。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物





