[發明專利]氣體擦拭裝置有效
| 申請號： | 201180052048.1 | 申請日： | 2011-10-18 |
| 公開（公告）號： | CN103180479A | 公開（公告）日： | 2013-06-26 |
| 發明（設計）人： | 古賀慎一;福山智大 | 申請（專利權）人： | 日新制鋼株式會社 |
| 主分類號： | C23C2/20 | 分類號： | C23C2/20 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;張會華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氣體 擦拭 裝置 | ||
1.一種氣體擦拭裝置，其特征在于，該氣體擦拭裝置具有：
第1氣體擦拭噴嘴和第2氣體擦拭噴嘴，其為了去除附著于從溶融金屬鍍液中提起的鋼帶的表面的過量的溶融金屬而以隔著上述鋼帶相對的方式配置；
第1管狀構件，其沿著上述鋼帶的寬度方向設置，并與上述第1擦拭噴嘴連接；
第2管狀構件，其沿著上述鋼帶的寬度方向設置，并與上述第2擦拭噴嘴連接；
箱狀體，其包圍上述第1氣體擦拭噴嘴、上述第2氣體擦拭噴嘴、上述第1管狀構件以及上述第2管狀構件；
第1分隔構件，其一端固定于上述第1管狀構件的外壁，另一端固定于上述箱狀體的內壁；以及
第2分隔構件，其一端固定于上述第2管狀構件的外壁，另一端固定于上述箱狀體的內壁；
該氣體擦拭裝置還具有：
第1延伸設置構件，其從上述第1氣體擦拭噴嘴的寬度方向上的一端部朝向上述第2氣體擦拭噴嘴的方向延伸設置；
第2延伸設置構件，其從上述第1氣體擦拭噴嘴的寬度方向上的另一端部朝向上述第2氣體擦拭噴嘴的方向延伸設置；
第3延伸設置構件，其從上述第2氣體擦拭噴嘴的寬度方向上的一端部朝向上述第1氣體擦拭噴嘴的方向延伸設置；以及
第4延伸設置構件，其從上述第2氣體擦拭噴嘴的寬度方向上的另一端部朝向上述第1氣體擦拭噴嘴的方向延伸設置；
至少上述第1延伸設置構件的頂端部與上述第3延伸設置構件的頂端部配置為在裝置上下方向上重疊，并且至少上述第2延伸設置構件的頂端部與上述第4延伸設置構件的頂端部配置為在裝置上下方向上重疊。
2.根據權利要求1或2所述的氣體擦拭裝置，其特征在于，
以能夠在預定的范圍內變更上述第1氣體擦拭噴嘴和上述第2氣體擦拭噴嘴的彼此間距離的方式使上述第1氣體擦拭噴嘴和上述第2氣體擦拭噴嘴中的至少任一個能夠相對于另一個平行移動，
即使當上述第1氣體擦拭噴嘴與上述第2氣體擦拭噴嘴之間處于上述預定的范圍內的最大距離時，至少上述第1延伸設置構件的頂端部與上述第3延伸設置構件的頂端部配置為在裝置上下方向上重疊，并且至少上述第2延伸設置構件的頂端部與上述第4延伸設置構件的頂端部配置為在裝置上下方向重疊。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調節
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態槽液上的覆蓋物
