[發(fā)明專利]形狀測定裝置、形狀測定方法、構(gòu)造物的制造方法及程序有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180051998.2 | 申請日: | 2011-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN103180691A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 神藤建太 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G01B21/20 | 分類號: | G01B21/20;G01B11/24 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019 | 代理人: | 壽寧 |
| 地址: | 日本東京都千代*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 形狀 測定 裝置 方法 構(gòu)造 制造 程序 | ||
1.一種形狀測定裝置,是測定具有三維形狀的被檢測物的表面形狀,其特征在于,具備:
檢測部,檢測具有三維形狀的被檢測物的表面形狀;以及
區(qū)域設(shè)定部,根據(jù)指定區(qū)域的形狀信息,將與前述指定區(qū)域相鄰的區(qū)域設(shè)定為測定區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述區(qū)域設(shè)定部,根據(jù)預(yù)先測定的前述指定區(qū)域的形狀信息,將與前述指定區(qū)域相鄰的區(qū)域設(shè)定為測定區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述區(qū)域設(shè)定部,根據(jù)在前述指定區(qū)域的設(shè)計信息的形狀信息,將與前述指定區(qū)域相鄰的區(qū)域設(shè)定為測定區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述區(qū)域設(shè)定部具備外插處理部,該外插處理部根據(jù)前述形狀測定數(shù)據(jù)借由外插處理算定前述指定區(qū)域外的區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的形狀測定裝置,其特征在于其中在前述測定區(qū)域包含前述指定區(qū)域;
前述檢測部,從前述指定區(qū)域外的區(qū)域進行檢測,在其后檢測前述指定區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述指定區(qū)域外的區(qū)域的范圍被預(yù)先決定。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述外插處理部,具備根據(jù)前述指定區(qū)域端部附近的前述形狀測定數(shù)據(jù)算定近似于前述被檢測物的表面形狀的曲線且根據(jù)該算定的曲線決定前述指定區(qū)域外的區(qū)域的延長方向的一次微分運算部、二次微分運算部或線形運算部的任一者;
前述一次微分運算部在與前述曲線的傾斜相同的方向決定前述指定區(qū)域外的區(qū)域的延長方向;
前述二次微分運算部在前述曲線的傾斜的變化量為一定的方向決定前述指定區(qū)域外的區(qū)域的延長方向;
前述線形運算部是使近似于前述被檢測物的表面形狀的曲線近似于直線而算定,在延長該直線的方向決定前述指定區(qū)域外的區(qū)域的延長方向。
8.根據(jù)權(quán)利要求4至7中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述外插處理部,是針對前述延長的測定區(qū)域的范圍,將從前述指定區(qū)域的端部至預(yù)先決定的既定距離為止、至到達預(yù)先決定的既定限制區(qū)域為止、或至根據(jù)從前述指定區(qū)域內(nèi)的前述被檢測物的形狀決定的形狀信息算定前述被檢測物能存在的極限位置而包含前述算定的極限位置的位置為止的任一者作為范圍,算定沿前述算定的曲線延長的距離。
9.根據(jù)權(quán)利要求4至8中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述區(qū)域設(shè)定部具備內(nèi)插處理部,前述內(nèi)插處理部是根據(jù)一邊使前述檢測部沿前述被檢測物表面相對移動、一邊檢測出的形狀測定數(shù)據(jù)借由內(nèi)插處理而取得形狀測定數(shù)據(jù);
前述外插處理,是根據(jù)前述取得的形狀測定數(shù)據(jù)與借由前述內(nèi)插處理取得的形狀測定數(shù)據(jù)進行外插處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其具備:驅(qū)動機構(gòu),是在以彼此正交的X軸、Y軸、以及Z軸所規(guī)定的正交坐標(biāo)系統(tǒng),將前述檢測部與前述被檢測物相對沿X軸方向、Y軸方向、以及Z軸方向驅(qū)動。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的形狀測定裝置,其特征在于其中前述驅(qū)動機構(gòu),進一步以前述X軸、Y軸、以及Z軸中的至少一個軸為中心使前述檢測部與前述被檢測物相對旋轉(zhuǎn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其中前述檢測部,具備下述中的至少一個檢測機構(gòu):
光切斷型檢測部,借由投影至前述被檢測物的線狀的光,根據(jù)形成于前述被檢測物表面的陰影圖案取得前述形狀測定數(shù)據(jù);
取得影像轉(zhuǎn)換型檢測部,是根據(jù)已拍攝前述被檢測物的形狀的影像數(shù)據(jù)取得前述形狀測定數(shù)據(jù);以及
接觸型檢測部,是接觸前述被檢測物而取得前述形狀測定數(shù)據(jù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一權(quán)利要求所述的形狀測定裝置,其特征在于其進一步具備輸入部,能輸入顯示在前述指定區(qū)域使前述檢測部配置的狀態(tài)的信息。
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