[發明專利]成形體、其制備方法、電子裝置用部件及電子裝置有效
| 申請號: | 201180050643.1 | 申請日: | 2011-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN103249767A | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發明(設計)人: | 巖屋涉;近藤健 | 申請(專利權)人: | 琳得科株式會社 |
| 主分類號: | C08J7/00 | 分類號: | C08J7/00;B32B27/00;B32B27/30;C23C14/48 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 林毅斌;李進 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成形 制備 方法 電子 裝置 部件 | ||
技術領域
本發明涉及成形體、其制備方法、含有所述成形體的電子裝置用部件及具備所述電子裝置用部件的電子裝置。
背景技術
目前,塑料薄膜等高分子成形體因價格低廉、加工性優異而被賦予所希望的功能,用于各種領域。
例如,對于食品或藥品的包裝用薄膜,為抑制蛋白質、油脂等的氧化和變質,保持味道和鮮度,使用防止水蒸氣、氧的透過的阻氣性塑料薄膜。
另外,近年來,對于液晶顯示器或電致發光(EL)顯示器等顯示器,為實現薄型化、輕量化、撓性化等,作為具有電極的基板,研究了使用透明塑料薄膜代替玻璃板。但是,塑料薄膜存在與玻璃板相比易透過水蒸氣、氧等,易引起顯示器內部元件劣化的問題。
為解決此問題,專利文獻1中提出了在透明塑料薄膜上層疊由金屬氧化物形成的透明阻氣層的撓性顯示器基板。
但是,由于該文獻記載的撓性顯示器基板為在透明塑料薄膜表面通過蒸鍍法、離子鍍膜法、濺射法等來層疊由金屬氧化物形成的透明阻氣層而得的基板,所以若將該基板卷起或彎折,則有阻氣層產生裂紋,從而阻氣性降低的問題。
另外,專利文獻2中公開了塑料薄膜和在該塑料薄膜的至少一面上層疊以聚有機硅倍半氧烷為主要成分的樹脂層而成的阻氣性層疊體。
但是,為獲得氧、水蒸氣等的阻氣性,需要進一步層疊無機化合物層,所以存在工序復雜或成本增加,有使用具有毒性的氣體的危險性等問題。
專利文獻3中公開了在薄膜的至少一面上形成聚硅氮烷膜,對該硅氮烷膜實施等離子體處理,制備阻氣性薄膜的方法。
但是,在該方法中,存在若使阻氣層的厚度為微米級則無法產生充分的阻氣性能的問題。例如,記載有若將阻氣層的厚度設為0.1μm,則水蒸氣透過率為0.50g/m2/天。
另外,專利文獻4中提出了在聚硅氮烷膜中混合丙烯酸類樹脂而得的膜,但不具有足夠的阻氣性。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2000-338901號公報
專利文獻2:日本特開2006-123307號公報
專利文獻3:日本特開2007-237588號公報
專利文獻4:日本特開平7-292321號公報。
發明內容
發明所要解決的課題
本發明鑒于上述現有技術而成,其目的在于,提供阻氣性、透明性和耐彎折性優異的成形體、其制備方法、含有該成形體的電子裝置用部件和具備該電子裝置用部件的電子裝置。
解決課題的手段
本發明人為解決上述課題而深入研究,結果發現一種具有阻氣層的成形體,上述阻氣層具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料構成的表層部,在該表層部中,相對于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的總存在量,碳原子的存在比例為超過0%且70%以下,氧原子的存在比例為10%以上且70%以下,氮原子的存在比例為0%以上且35%以下,硅原子的存在比例為20%以上且55%以下,所述成形體具有優異的阻氣性、透明性和耐彎折性。另外,發現這樣的成形體可通過向在表面部具有含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸類樹脂的層的成形物的上述含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸類樹脂的層中注入離子,而簡便且有效地制備,從而完成本發明。
這樣,根據本發明的第1方面,提供下列(1)~(7)的成形體。
(1)?成形體,所述成形體為具有阻氣層的成形體,其特征在于,所述阻氣層具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料構成的表層部,在所述表層部中,相對于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的總存在量,碳原子的存在比例為超過0%且70%以下,氧原子的存在比例為10%以上且70%以下,氮原子的存在比例為0%以上且35%以下,硅原子的存在比例為20%以上且55%以下。
(2)?(1)中記載的成形體,其特征在于,上述阻氣層為含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸類樹脂的層,在40℃、相對濕度為90%的環境下的水蒸氣透過率為1g/m2/天以下。
(3)?(2)中記載的成形體,其中,相對于聚硅氮烷化合物和丙烯酸類樹脂的總量,丙烯酸類樹脂的含量為0.1質量%以上且70質量%以下。
(4)?(1)~(3)的任一項中記載的成形體,其特征在于,上述阻氣層具有向含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸類樹脂的層中注入離子而得的層。
(5)?(4)中記載的成形體,其特征在于,上述離子為將選自氫、氮、氧、氬、氦、氖、氙、氪、硅化合物和烴的至少一種氣體離子化而得的離子。
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