[發明專利]太陽能電池的制造方法無效
| 申請號: | 201180044201.6 | 申請日: | 2011-10-03 |
| 公開(公告)號: | CN103109380A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發明(設計)人: | 下澤慎 | 申請(專利權)人: | 富士電機株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/20 | 分類號: | H01L31/20;C23C16/56 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
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| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及具有在基板的一個表面依次層疊有第一電極、光電轉換層、第二電極的構造的太陽能電池的制造方法。
背景技術
太陽能電池中有Si(硅)類的薄膜太陽能電池、不使用Si的化合物形太陽能電池等。在這種太陽能電池中,一般而言,第一電極、光電轉換層、第二電極依次層疊于透射性或非透射性的基板上。在基板為透射性的情況下,太陽光可能從第一電極和第二電極兩方入射,能夠將太陽能電池的第一電極側和第二電極側的兩方設為受光面側。另一方面,在基板為非透射性的情況下,將太陽能電池的第二電極側設為受光面側。這種受光面側的電極使用透明電極。另一方面,受光面側的相反側的電極使用電阻值低的電極,也有該電極使用透明電極的情況。另外,為了使入射的光在光電轉換層內長時間滯留并且提高光吸收量,大多將各電極的表面形成為紋理(texture)形狀。作為形成這種電極的方法,一般而言采用使用真空裝置實施濺射、蒸鍍等處理的方法。
作為使光電轉換層成膜的方法,多數情況下采用等離子體CVD法、濺射法、蒸鍍法等。光電轉換層使用將p型半導體和n型半導體接合的pn型的光電轉換單元、或者在p型半導體與n型半導體間配置有實質性的本征的i型半導體的pin型光電轉換單元等,另外,有由1層光電轉換單元構成的單一結型的光電轉換層、或者由2層以上的光電轉換單元構成的多結型的光電轉換層等。
此處,對光電轉換層的構造進行說明時,在pin型的光電轉換單元的情況下,由于在光電轉換層中實質上將光轉換為電的i層的光電轉換性能與某程度i層的膜厚成比例,因此將i層的膜厚設定得比p層、n層厚。i層的最適的膜厚例如在a-Si類太陽能電池的情況下設為50nm~500nm程度,在微結晶Si類太陽能電池的情況下設為1μm~3μm程度。另一方面,p層和n層實質上無助于光電轉換功能,被這些層吸收的光成為吸收損耗。因此,p層和n層的膜厚設定為i層的膜厚薄的數分之一~數十分之一的程度。另外,在i層與p層或者n層之間也有根據需要配置有界面層的情況。pin型的光電轉換單元由這樣的i層、p層和n層構成。
作為具有上述那樣的i層的Si類薄膜太陽能電池的一例,有將a-Si(非晶硅)和a-SiGe(非晶硅鍺)作為i層的材料、且層疊有2個光電轉換單元的串聯型(tandem)的太陽能電池。在該串聯型的太陽能電池中,可根據a-SiGe膜含有的Ge量變更膜中的光學帶隙(Eg),因此使a-SiGe膜的光學帶隙比a-Si膜狹小,通過層疊將a-Si膜和a-SiGe膜分別作為i層的光電轉換單元,能夠效率良好地吸收太陽光,能夠使太陽能電池高效。另外,作為多結型的太陽能電池,有具有2層光電轉換單元的串聯型、具有3層的光電轉換單元的三層型、具有4層以上的光電轉換單元的多結型等,但是通過使用控制為適當的光學帶隙的i層并且增加層疊數,能夠效率良好地吸收太陽光。
另外,在硅類的薄膜太陽能電池中,使用被稱為SCAF(Series?Connection?through?Apertures?formed?on?Film)的串聯連接構造。在該串聯連接構造中,通過激光構圖處理形成分割為多個區域的薄膜太陽能電池,串聯連接被貫通基板的多個貫通孔分割的多個薄膜太陽能電池。
另一方面,作為化合物類的太陽能電池的一例,列舉有在光電轉換層通過p型的CIGS層和n型的CdS層形成有pn結的CIGS類太陽能電池、在光電轉換層通過p型的CdTe層和n型的CdS層形成有pn結的CdTe類太陽能電池等。特別是,CIGS層通過改變Ga(鎵)和S(硫)的添加量,可變更光學帶隙,因此在CIGS類的太陽能電池中,通過使用層疊有多個光電轉換單元的多結型的光電轉換層,能夠高效地吸收太陽光。
另外,在pn型的光電轉換單元的情況下,將一個導電型層(p層或n層)的膜厚設定得比另一個導電型層的膜厚厚,大多在膜厚厚的一方的導電型層上具有實質的光電轉換功能。例如,CIGS類的太陽能電池的光電轉換單元通過約1μm~3μm的p型CIGS層和約50nm~100nm的n型CdS層的接合而形成,在該情況下,實質上將光轉換為電的層成為p型CIGS層。CdTe類太陽能電池的光電轉換單元通過約50nm~100nm的n型CdS層和約3μm~7μm的p型CdTe層的接合而形成,在該情況下,實質上將光轉換為電的層為p型CdTe層。
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H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





