[發明專利]銅蝕刻廢液的處理方法有效
| 申請號: | 201180043075.2 | 申請日: | 2011-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN103097302A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發明(設計)人: | 中原敏次 | 申請(專利權)人: | 栗田工業株式會社 |
| 主分類號: | C02F1/58 | 分類號: | C02F1/58;C02F1/62;C22B3/44;C22B15/00;C23F1/00;C23F1/18 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 張永康;向勇 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蝕刻 廢液 處理 方法 | ||
1.一種銅蝕刻廢液的處理方法,其特征在于,其包含將含有過氧化氫的銅蝕刻廢液調整至pH4以上的工序。
2.如權利要求1所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其包含將通過前述將含有過氧化氫的銅蝕刻廢液調整至pH4以上的工序所發生的SS進行固液分離的工序。
3.如權利要求2所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其包含將經固液分離的前述SS的一部分或全部添加于含有過氧化氫的銅蝕刻廢液中的工序。
4.如權利要求2或3所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其包含將經固液分離的前述SS進行回收的工序。
5.如權利要求1至4中任一項所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其包含將通過前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液的處理所得到的處理水作為稀釋水添加于前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液中的工序。
6.如權利要求1至5中任一項所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液的過氧化氫濃度為1重量%以上、且pH為3以下。
7.如權利要求6所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液的過氧化氫濃度為1~10重量%、pH為1~3,并且,過氧化氫以外的成分含量為:銅0.1~1.0重量%、總氮0.3~2.0重量%、TOC0.5~3.0重量%。
8.如權利要求1至7中任一項所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其于前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液中添加堿劑調整pH至6~9。
9.如權利要求2至8中任一項所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其將前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液調整至pH4以上并使反應0.25~2.0小時,然后,將所發生的SS進行固液分離。
10.如權利要求5至9中任一項所述的銅蝕刻廢液的處理方法,其中,其通過于前述含有過氧化氫的銅蝕刻廢液中添加前述稀釋水,以使液溫維持在40~70℃。
11.一種銅蝕刻廢液的處理裝置,其特征在于,其具備:
可導入含有過氧化氫的銅蝕刻廢液的pH調整槽、
于pH調整槽中添加堿劑的堿劑添加裝置、
測定pH調整槽內的pH的pH計、
根據pH計的測定值以控制堿劑添加裝置的控制裝置、
可導入pH調整槽的流出液的反應槽、
可導入反應槽的流出液的固液分離裝置、
將通過固液分離裝置分離的污泥的一部分回送至pH調整槽的裝置、以及
可導入分離污泥的剩余部分的脫水裝置。
12.如權利要求11所述的銅蝕刻廢液的處理裝置,其中,其具有將通過前述固液分離裝置分離的處理水的一部分添加于前述pH調整槽中的裝置。
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