[發(fā)明專利]分離設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180041845.X | 申請日: | 2011-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN103118808A | 公開(公告)日: | 2013-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | S·P·M·貝爾庫特;P·C·雷姆 | 申請(專利權(quán))人: | 焚化爐底灰研究與發(fā)展公司 |
| 主分類號: | B07B13/10 | 分類號: | B07B13/10;B07B13/11;B07B13/16 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王永建 |
| 地址: | 荷蘭代*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分離 設(shè)備 | ||
1.一種用于從顆粒流(4)分離至少具有第一組的尺寸的顆粒(3)的第一部分和具有第二組的尺寸的顆粒(3)的第二部分的分離設(shè)備(1),其中第一組中的顆粒通常具有比第二組中的顆粒小的直徑,該分離設(shè)備包括:用于顆粒流(4)的進給裝置(2,10);可旋轉(zhuǎn)的鼓(5),在它的周緣(13)具有板(6,6’),每個板具有用于顆粒的沿徑向延伸的碰撞表面;和接收區(qū)域(12),用于接收第二部分的顆粒,其中所述接收區(qū)域(12)具有用于排出在所述接收區(qū)域(12)中接收的顆粒的傳送裝置(17),其特征在于,用于第二部分的接收區(qū)域(12)中的傳送裝置(17)在使用期間以至少2m/s的速度移動。
2.如權(quán)利要求1所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,所述用于第二部分的接收區(qū)域(12)中的傳送裝置(17)具有傾斜位置,從而它使沉積在它上面的顆粒向上移動到傳送裝置的出口。
3.如權(quán)利要求1所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,所述傳送裝置(17)的表面以4m/s的速度移動。
4.如權(quán)利要求1或2所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,在傳送裝置的出口,提供刮擦器(23)以去除粘合到傳送裝置(17)的表面的第一部分的顆粒。
5.如權(quán)利要求1-3中任何一項所述的分離設(shè)備(1),其中在傳送裝置的出口,提供第一鼓風(fēng)機(19),第一鼓風(fēng)機(19)提供向下方向氣流(18)以去除由第二部分的顆粒一起拖動的第一部分的顆粒,其特征在于,由第一鼓風(fēng)機(19)提供的氣流(18)具有在范圍15-30m/s中的氣流速度。
6.如權(quán)利要求1-4中任何一項所述的分離設(shè)備(1),其中所述進給裝置(2,10)包括相對于水平線以在范圍70-90°中的角度傾斜的振動滑板(2),滑板(2)具有位于鼓(5)上方的邊緣(2’),邊緣(2’)被實現(xiàn)為用于顆粒流(4)的出口,并且振動滑板(2)的邊緣(2’)垂直地位于所述鼓(5)的旋轉(zhuǎn)軸線(8)的上方,以使得在使用時,顆粒流(4)的顆粒(3)沿朝著所述旋轉(zhuǎn)軸線(8)的方向朝著鼓(5)下落,并且進行這樣的布置,即在所述板(6,6’)處于從鼓(5)延伸的近似垂直向上的位置的時刻,鼓(5)的板(6,6’)撞擊所述下落的顆粒(3),其特征在于,所述滑板以大約85°的角度傾斜。
7.如前面權(quán)利要求中任何一項所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,提供向下方向氣流的第二鼓風(fēng)機(21)被放置在鼓(5)的附近,以便在所述板(6,6’)處于從鼓(5)延伸的垂直向上的位置的時刻鼓(5)的板(6,6’)撞擊朝著鼓(5)沿進給裝置(2,10)的滑板(2)下落的所述顆粒(3)之后,在早期從鼓(5)移走的顆粒的流朝著第二接收區(qū)域(11)去除第一部分的顆粒。
8.如前面權(quán)利要求中任何一項所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,沖擊板(22)相對于鼓(5)位于遠處并沿遠離鼓(5)的方向向下傾斜,沖擊板(22)至少部分地在用于第二部分的接收區(qū)域(12)中的傳送裝置(17)的上方延伸。
9.如權(quán)利要求7所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,所述沖擊板(22)相對于水平線以小于45°的角度傾斜。
10.如權(quán)利要求7或8所述的分離設(shè)備(1),其特征在于,所述沖擊板(22)相對于水平線以15°和30°之間的角度傾斜。
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