[發明專利]熒光X射線分析裝置及方法

有效

• 申請號: 201180031886.0
• 申請日: 2011-04-21
• 公開（公告）號: CN102959387A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 喜多廣明;小林寬
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

1.一種熒光X射線分析裝置，其包括：

試樣臺，載置具有結晶構造的試樣；

X射線源，對試樣照射一次X射線；

檢測機構，檢測從試樣產生的二次X射線；

旋轉機構，使該試樣臺以垂直于試樣測定面的軸為中心旋轉；

平行移動機構，在該旋轉機構停止的狀態下，使該試樣臺平行移動，以使一次X射線照射在試樣測定面的一半的任意位置；

控制機構，將以下衍射圖案顯示在顯示機構，并存儲該衍射圖案，該衍射圖案為一面通過該旋轉機構使試樣繞著試樣的既定點旋轉360°，一面從該X射線源照射一次X射線，使從試樣產生而入射到該檢測機構的二次X射線的強度與試樣的旋轉角度相對應；以及

選擇機構，測定者根據顯示在該顯示機構的衍射圖案，來選擇至少3個相鄰間隔為不到180°，且可回避衍射X射線的回避角度，其特征在于，

該控制機構存儲由該選擇機構所選擇的回避角度，對應試樣的測定點從該已存儲的回避角度之中讀出：該試樣臺、旋轉機構以及平行移動機構不會干涉該熒光X射線分析裝置的其他構造物的回避角度，由此控制該旋轉機構，以將試樣設定在該回避角度。

2.如權利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其中，

該顯示機構將回避角度標志與存儲在該控制機構的衍射圖案及/或試樣的測定面影像一并顯示，該回避角度標志顯示由該選擇機構所選擇的回避角度的位置。

3.一種熒光X射線分析方法，

其使用權利要求1所記載的熒光X射線分析裝置，

選擇至少3個相鄰間隔不到180°，且可回避衍射X射線的回避角度，

針對由該控制機構設定了回避角度的試樣，使其在平行于其測定面的面內移動來分析試樣的測定面的整個區域。

4.如權利要求3所述的熒光X射線分析方法，其中，

在該顯示機構中一并顯示：回避角度標志，其顯示利用該選擇機構所選擇的回避角度的位置；存儲在該控制機構的衍射圖案及/或試樣的測定面影像。