[發(fā)明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180031491.0 | 申請日: | 2011-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN102985971A | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 俵義浩;早川凈;長田太志 | 申請(專利權(quán))人: | HOYA株式會社 |
| 主分類號: | G11B5/84 | 分類號: | G11B5/84;B24B1/00;B24B7/24;C10M125/02;C10M125/10;C10M177/00;G11B5/73 |
| 代理公司: | 北京天悅專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 吳京順;任曉航 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁盤 玻璃 制造 方法 以及 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及搭載于硬盤驅(qū)動器(HDD)等磁盤裝置的磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法。
背景技術(shù)
存在一種搭載于硬盤驅(qū)動器(HDD)等磁盤裝置的信息記錄介質(zhì)之一的磁盤。磁盤是在基板上形成磁性層等薄膜而構(gòu)成,作為該基板過去一直使用鋁基板。但是,最近,隨著記錄的高密度化的要求,與鋁基板相比玻璃基板能夠?qū)⒋蓬^和磁盤之間的間隔縮短成很小,因此玻璃基板所占有的比率逐漸增大。另外,對玻璃基板表面高精度地進行研磨以使磁頭的上浮高度盡量下降,由此實現(xiàn)記錄的高密度化。近年來,對HDD越來越多地要求更大的存儲容量化和價格的低廉化,為了實現(xiàn)這樣的目的,磁盤用玻璃基板也必須具有更高的質(zhì)量和低成本。
如上所述,為了滿足記錄的高密度化所必須的低飛行高度(上浮量),磁盤表面必須具有高平滑性??傊?,要想得到磁盤表面的高平滑性就要求具有高平滑性的基板表面,因此需要對玻璃基板表面進行高精度的研磨。
為了制造這樣的玻璃基板,現(xiàn)有技術(shù)中公開了如下的研削方法:在使用游離磨粒進行的研削(研磨)工序中,通過使用鉆石薄片的固定磨粒進行研削(例如,專利文獻1等)。鉆石薄片是用樹脂(例如丙烯酸類樹脂等)等支撐材料固定鉆石磨粒的小球(或者將這樣的小球粘貼在薄片上的鉆石薄片)。在現(xiàn)有的游離磨粒中形狀變形的磨粒介于平臺和玻璃之間不均勻地存在,因此當(dāng)對磨粒的負荷不規(guī)定而負荷集中時,平臺表面因鑄鐵而處于低彈性,因此在玻璃上產(chǎn)生深的裂紋,玻璃的加工表面粗糙度變大,在后續(xù)的鏡面研磨工序中需要大的去除量,因此難以降低加工成本。與此相比,在通過用鉆石薄片的固定磨粒進行的研削中,磨粒均勻地存在于薄片表面,因此負荷不會集中,并且用樹脂來將磨粒固定在薄片上,因此即使對磨粒施加負荷,由于固定磨粒的樹脂的高彈性作用,加工面的裂紋變淺,能夠降低加工表面粗糙度,從而在后續(xù)工序中的負荷下降而能夠降低加工成本。
在該研削(研磨)工序結(jié)束后,進行鏡面研磨加工以得到高精度的平面。
另外,現(xiàn)在的HDD能夠?qū)崿F(xiàn)一平方英寸400千兆字節(jié)程度的記錄密度,例如,2.5英寸型(直徑65mm)的磁盤能夠存儲250千兆字節(jié)程度的信息,但是作為記錄的更高的密度化的方法,例如實現(xiàn)500千兆字節(jié)、1百萬兆字節(jié)的方法,提出了熱輔助磁記錄方式。適用于該熱輔助磁記錄方式的磁盤需具有比現(xiàn)在的磁盤更高的耐熱性。因此,作為基板優(yōu)選使用的是耐熱性高的玻璃材料。
專利文獻1:特開2001-191247號公報
發(fā)明內(nèi)容
如上所述,通過利用鉆石薄片的固定磨粒的研削方法,能夠降低加工面的表面粗糙度,并且之后的鏡面研磨工序的負荷降低,因此能夠降低玻璃基板的加工成本,但根據(jù)本發(fā)明人的研究也存在如下的課題。
即,利用固定磨粒的研削方法的情況,發(fā)現(xiàn)伴隨著加工時間研削率會下降。圖1為表示伴隨著加工時間的研削率的變化圖,利用普通玻璃(現(xiàn)有的磁盤用玻璃基板中通常使用的鋁硅酸鹽玻璃)時,伴隨著加工時間研削率會下降,尤其是利用耐熱性玻璃(大概Tg為600℃以上)時,研削率更是大幅下降。因此,無法同時滿足既提高表面質(zhì)量又降低加工成本的要求。
為了解決上述的現(xiàn)有的課題,本發(fā)明的目的在于提供一種通過固定磨粒的研削加工不會伴隨研削率下降的能夠以低成本制造出高質(zhì)量的玻璃基板的磁盤用玻璃基板的制造方法,以及利用通過該方法獲得的玻璃基板的磁盤的制造方法。
發(fā)明人對利用這樣的固定磨粒的研削方法的伴隨著加工時間研削率下降的原因進行了研究,結(jié)果認為其原因如下。
現(xiàn)有的利用游離磨粒的研削加工中由于磨粒是游離狀態(tài),因此在研削加工過程中所產(chǎn)生的研削屑即使附著在磨粒上,但磨粒會重復(fù)旋轉(zhuǎn),通過平臺和玻璃的摩擦,研削屑不會堆積在磨粒表面而被排出。另外,在利用固定磨粒的研削加工中,由于磨粒是被固定的,因此如果附著有研削屑,則磨粒不會旋轉(zhuǎn),因此研削屑堆積并固化在磨粒表面上,因此產(chǎn)生通過研削屑的固定磨粒的堵塞,從而引起加工障礙導(dǎo)致的研削率的下降。這種情況下,通過向加工面供給的潤滑液(也可稱之為冷卻液)的作用清洗(去除)已堆積在磨粒表面的研削屑是比較困難的。通過固定磨粒的研削加工與通過游離磨粒的研削加工相比,研削量小,且進行高精細加工,因此伴隨著加工所排出的研削屑等多包含粒徑細微的屑,因此容易附著在磨粒表面上。
另外,尤其是關(guān)于引起耐熱性玻璃的加工率大幅下降的原因,認為其原因如下。
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