[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法

有效

• 申請號: 201180031491.0
• 申請日: 2011-08-31
• 公開（公告）號: CN102985971A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 俵義浩;早川凈;長田太志
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B24B1/00;B24B7/24;C10M125/02;C10M125/10;C10M177/00;G11B5/73
• 代理公司: 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311
• 代理人: 吳京順;任曉航

1.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，包括研削工序，該研削工序利用潤滑液和在研削面配備有包含鉆石粒子的固定磨粒的平臺，對玻璃基板主表面進行研削，其特征在于，

使供給到所述玻璃基板的研削加工面的所述潤滑液中包含Al³⁺。

2.根據權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述潤滑液中添加Al₂O₃。

3.根據權利要求1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述潤滑液中的Al³⁺的含有量為0.05g/L~1.0g/L范圍。

4.根據權利要求1至3任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板由如下的玻璃構成：所述玻璃以摩爾%表示包含有，

50~75%的SiO₂、

0~5%的Al₂O₃、

0~2%的BaO、

0~3%的Li₂O、

0~5%的ZnO、

合計3~15%的Na₂O和K₂O、

合計14~35%的MgO、CaO、SrO、以及BaO、

合計2~9%的ZrO₂、TiO₂、La₂O₃、Y₂O₃、Yb₂O₃、Ta₂O₅、Nb₂O₅以及HfO₂，

并且摩爾比[（MgO+CaO）/（MgO+CaO+SrO+BaO）]為0.85~1范圍，并且摩爾比[Al₂O₃/（MgO+CaO）]為0~0.30范圍。

5.一種磁盤的制造方法，其特征在于，在通過權利要求1至4任一項所述的制造方法得到的磁盤用玻璃基板上，至少形成磁性層。

6.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，包括研削工序，該研削工序利用潤滑液和在研削面配備有多個固定磨粒的平臺，對玻璃基板主表面進行研削，其特征在于，

在供給到所述玻璃基板的研削加工面的所述潤滑液中添加添加劑，該添加劑用于促進通過研削在研削面殘留的淤渣的凝聚物的排出。

7.根據權利要求6所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板由以SiO₂為主成分并含有0~15重量%Al₂O₃的玻璃構成。

8.根據權利要求6或7所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述潤滑液是包含胺、礦物油、煤油、礦質松節油、水溶性油乳劑、聚乙烯亞胺、乙二醇、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、丙二醇、胺硼酸鹽、硼酸、胺羧酸鹽、松油、吲哚、硫胺鹽、酰胺、六氫-1,3,5-三乙基三嗪、羧酸、2-硫醇基苯并噻唑鈉鹽、異丙醇胺、三乙二胺四醋酸、丙二醇甲醚、苯并三唑、2-巰基吡啶氧化物鈉鹽、己二醇中的一種以上的水性溶液。

9.根據權利要求6至8任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述潤滑液中添加的所述添加劑是從Al₂O₃、硫酸鋁銨、溴化鋁、氯化鋁、氫氧化鋁、碘化鋁、硝酸鋁、磷酸鋁、硫酸鉀鋁、硫酸鋁中選擇。

10.根據權利要求6至9任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述潤滑液中添加的所述添加劑的含有量為0.05g/L~1.0g/L范圍。