[發(fā)明專利]玻璃硬盤基板用研磨液組合物

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201180018363.2
• 申請(qǐng)日: 2011-04-20
• 公開（公告）號(hào): CN102834480A
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 土居陽彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 花王株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C09K3/14
• 分類號(hào): C09K3/14;B24B37/00;G11B5/84
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及玻璃硬盤基板用研磨液組合物、玻璃硬盤基板的制造方法以及玻璃硬盤基板的研磨方法。

背景技術(shù)

硬盤驅(qū)動(dòng)器因高速旋轉(zhuǎn)而功耗高，近年來從對(duì)環(huán)境的顧慮方面來看也已成為重大問題，要求低功耗化。為了降低功耗，有如下的方法：增大每一張硬盤的記錄容量，并減少搭載于驅(qū)動(dòng)器的硬盤的張數(shù)，使其輕量化。為了使每張基板的記錄容量提高，需要縮減單位記錄面積。但是，在縮減記錄面積時(shí)會(huì)產(chǎn)生磁信號(hào)變?nèi)醯膯栴}。因此，為了提高磁信號(hào)的檢測靈敏度，正在開發(fā)進(jìn)一步減小磁頭的浮動(dòng)高度的技術(shù)。在硬盤基板的研磨中，為了對(duì)應(yīng)上述磁頭的低浮動(dòng)化而對(duì)表面粗糙度等平滑性、減少殘留物等缺陷的要求變嚴(yán)格。針對(duì)這樣的要求，提出了一種含有丙烯酸/磺酸共聚物的研磨液組合物(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

另外，為了降低制造時(shí)的成本，提出了如下的被稱為循環(huán)研磨的方法，即，在玻璃硬盤基板的精研磨工序中，將所使用的研磨液再次投入研磨機(jī)中，使研磨液連續(xù)地循環(huán)而再利用(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2007-191696號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2007-245265號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

為了實(shí)現(xiàn)硬盤驅(qū)動(dòng)器的進(jìn)一步大容量化，僅僅是利用以往的研磨液組合物來降低表面粗糙度是不夠的，需要進(jìn)一步減少研磨后基板表面的殘留物。另外，需要在維持高生產(chǎn)率的同時(shí)，進(jìn)一步減少研磨后基板表面的缺陷。

另外，使用以往的研磨液組合物進(jìn)行長時(shí)間循環(huán)研磨時(shí)，存在研磨速度逐漸降低的問題，需要進(jìn)一步改善研磨液組合物在循環(huán)研磨中的耐久性。

本發(fā)明提供玻璃硬盤基板用研磨液組合物、以及使用該研磨液組合物的玻璃硬盤基板的制造方法及玻璃硬盤基板的研磨方法，所述玻璃硬盤基板用研磨液組合物能在循環(huán)研磨中長時(shí)間維持研磨速度的情況下進(jìn)行研磨，即，能進(jìn)行研磨速度的降低得到抑制的循環(huán)研磨，并且能實(shí)現(xiàn)高清潔性和高研磨速度。

用于解決問題的手段

本發(fā)明涉及一種玻璃硬盤基板用研磨液組合物，其為含有胺化合物、酸、二氧化硅粒子和水的玻璃硬盤基板用研磨液組合物，其中，所述胺化合物選自由氨基醇、以及哌嗪及其衍生物組成的組，該胺化合物的分子內(nèi)具有2個(gè)或3個(gè)氮原子，其中至少1個(gè)是伯胺或者仲胺。

作為其他實(shí)施方式，本發(fā)明涉及包括使用本發(fā)明的玻璃硬盤基板用研磨液組合物對(duì)玻璃硬盤基板進(jìn)行循環(huán)研磨的工序的玻璃硬盤基板的制造方法、以及玻璃基板的研磨方法。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠提供實(shí)現(xiàn)研磨后的基板表面的高清潔性、能以高研磨速度進(jìn)行研磨、且能夠在循環(huán)研磨中維持高研磨速度的玻璃硬盤基板用研磨液組合物，使用其的玻璃硬盤基板的制造方法以及玻璃硬盤基板的研磨方法。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明基于如下見解：在使用以往的研磨液組合物的玻璃硬盤基板的循環(huán)研磨中研磨速度降低的原因之一為，在研磨后為了再利用而回收的研磨液組合物的pH值增大。進(jìn)而，本發(fā)明還基于如下見解：通過形成組合有氨基醇、以及哌嗪及其衍生物等規(guī)定的胺化合物、酸和二氧化硅粒子的研磨液組合物，能夠抑制研磨后回收的研磨液組合物的pH值變化，并且能在研磨中兼顧優(yōu)異的清潔性和研磨速度。

即，本發(fā)明涉及一種玻璃硬盤基板用研磨液組合物(以下也稱為“本發(fā)明的研磨液組合物”。)，其含有胺化合物、酸、二氧化硅粒子和水，所述胺化合物選自由氨基醇、以及哌嗪及其衍生物組成的組，該胺化合物的分子內(nèi)具有2個(gè)或3個(gè)氮原子，其中至少一個(gè)是伯胺或仲胺。根據(jù)本發(fā)明的研磨液組合物，實(shí)現(xiàn)研磨后的基板表面的高清潔性，能夠以高研磨速度進(jìn)行研磨，而且能夠在循環(huán)研磨中維持研磨速度。

[清潔性]

本說明書中，清潔性是指除去研磨工序中殘留在基板表面的物質(zhì)的性能。作為研磨后殘留在基板表面的物質(zhì)，例如可以列舉出：磨粒、研磨中產(chǎn)生的研磨碎屑、研磨墊的碎屑、不銹鋼等研磨機(jī)所使用的部件等。如果使用本發(fā)明的研磨液組合物進(jìn)行研磨，則研磨后基板表面的清潔性提高，能減小磁頭的浮動(dòng)高度，可增大玻璃硬盤基板的記錄容量。

[循環(huán)研磨中的耐久性]