[發明專利]光掩模單元及其制造方法

有效

• 申請號: 201180017361.1
• 申請日: 2011-03-10
• 公開（公告）號: CN102822744A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 秋山昌次;久保田芳宏
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: G03F1/62
• 分類號: G03F1/62;G03F1/64;H01L21/027
• 代理公司: 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280
• 代理人: 王勇

1.一種光掩模單元，包括:

防塵薄膜；

防塵薄膜組件框架，其形成框架狀，其一個端面上粘貼所述防塵薄膜的側部近旁區域；

光掩模；

臺子，在其一個表面上固定有所述光掩模及所述防塵薄膜組件框架，

其特征在于所述防塵薄膜組件框架，在比固定所述光掩模的臺子的范圍還要靠外側被固定于所述臺子上。

2.根據權利要求1所述的光掩模單元，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是金屬制。

3.根據請求項1或2上所述的光掩模單元,其特征在于所述防塵薄膜組件框架是用靜電卡盤被固定在所述臺子的一個表面上。

4.根據權利要求1或2所述的光掩模單元，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是用機械手段被固定在所述臺子的一個表面上。

5.根據權利要求1或2所述的光掩模單元，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是用粘著劑固定在所述臺子的一個表面上。

6.一種光掩模單元的制造方法，所述光掩模單元包括

防塵薄膜；

防塵薄膜組件框架，其呈框架狀，其一個端面粘貼所述防塵薄膜的側部近旁區域；

光掩模；

臺子，其一個表面固定有所述光掩模及所述防塵薄膜組件框架，其特征在于所述臺子的一個表面固定有所述光掩模，所述防塵薄膜組件框架的另一端面在比固定所述光掩模的臺子的范圍還要靠外側的處，被固定于所述臺子上。

7.根據權利要求6所述的光掩模單元的制造方法，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是金屬制。

8.根據權利要求6或7所述的光掩模單元的制造方法，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是用靜電卡盤被固定在所述臺子的一個表面上。

9.根據權利要求6或7所述的光掩模單元的制造方法，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是用機械手段被固定在所述臺子的一個表面上。

10.根據權利要求6或7所述的光掩模單元的制造方法，其特征在于所述防塵薄膜組件框架是用粘著劑固定在所述臺子的一個表面上。