[實用新型]1米立式接觸式干涉儀有效
| 申請號: | 201120496992.3 | 申請日: | 2011-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN202522192U | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發明(設計)人: | 朱敬華;任和漢 | 申請(專利權)人: | 西安航天計量測試研究所 |
| 主分類號: | G01B9/02 | 分類號: | G01B9/02 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人: | 張倩 |
| 地址: | 710100 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 立式 接觸 干涉儀 | ||
1.1米立式接觸式干涉儀,其特征在于:包括基座、光學系統、探頭組件、工作臺以及調節組件,所述探頭組件包括探頭支架以及固定在探頭支架上的探頭,所述光學系統與探頭支架固定連接,所述探頭正對工作臺安裝,所述調節組件包括雙立柱、絲杠、設置在雙立柱上的滑塊、設置在絲杠一端的旋轉手柄以及設置在滑塊上的鎖緊螺釘,所述旋轉手柄驅動絲杠帶動滑塊沿雙立柱運動,所述探頭支架與滑塊固定連接。
2.根據權利要求1所述的1米立式接觸式干涉儀,其特征在于:所述調節組件還包括精調螺母(3)和細調鎖緊螺釘(2),所述精調螺母設置在探頭和探頭支架之間,所述細調鎖緊螺釘設置在探頭支架上。
3.根據權利要求1或2所述的1米立式接觸式干涉儀,其特征在于:所述光學系統包括沿光學傳播方向依次設置的光源(1)、聚光鏡(2)、濾光片(3)以及分光鏡(4),分光鏡(4)將入射光分成兩路分別投射在互相垂直的第一反光鏡(6)和第二反光鏡(7)上,第一反光鏡(6)和分光鏡(4)之間設置有補償鏡(5),沿第一反光鏡(6)的光路依次設置有測量桿以及被測件,
沿第二反光鏡(7)的光路依次設置有物鏡(8)、分劃板(9)以及目鏡(10)。
4.根據權利要求3所述的1米立式接觸式干涉儀,其特征在于:所述工作臺下方設置有三個用于調節工作臺的工作面以及探頭測量軸線的垂直度的旋轉螺母。
5.根據權利要求4所述的1米立式接觸式干涉儀,其特征在于:所述基座底部設置有彈性橡膠。?
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