[實用新型]連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120472491.1 | 申請日: | 2011-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN202465857U | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃能杰 | 申請(專利權(quán))人: | 黃能杰 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56 |
| 代理公司: | 深圳冠華專利事務(wù)所(普通合伙) 44267 | 代理人: | 諸蘭芬 |
| 地址: | 中國臺灣臺中市*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 連續(xù) 真空鍍膜 設(shè)備 輸送 裝置 | ||
1.一種連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置,可供配合連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備,系包含有:
一前端升降機構(gòu)與一后端升降機構(gòu)分別連接于連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的產(chǎn)品輸入端與輸出端,該前端升降機構(gòu)與該后端升降機構(gòu)分別設(shè)一雙向運轉(zhuǎn)動力源,各該雙向運轉(zhuǎn)動力源分別驅(qū)動復(fù)數(shù)滾軸呈同向轉(zhuǎn)動,各該滾軸沿著連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的輸送方向排列設(shè)置,且各該軸心方向與輸送方向互相垂直,另該前端升降機構(gòu)與該后端升降機構(gòu)分別設(shè)有一可偵測高點位置的上感測開關(guān)與一可偵測低點位置的下感測開關(guān),各該升降機構(gòu)鄰近連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的一端設(shè)有一感測開關(guān),且遠離連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的一端設(shè)有一定位感測開關(guān);位于連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的下方設(shè)有一進料基臺、一鍍膜基臺與一出料基臺,連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的下方設(shè)有一回傳機構(gòu),并延伸于該前端升降機構(gòu)與該后端升降機構(gòu),該回傳機構(gòu)具有一動力源驅(qū)動復(fù)數(shù)同向轉(zhuǎn)動的滾軸;?
其特征在于,該前端升降機構(gòu)、該后端升降機構(gòu)與該進料基臺、該鍍膜基臺與該出料基臺分別增設(shè)一帶體與一支撐件與該動力源,各該帶體分別環(huán)設(shè)于其中二該滾軸與其中該支撐件,各該動力源分別驅(qū)動該回傳機構(gòu)的復(fù)數(shù)滾軸呈同向轉(zhuǎn)動。
2.如權(quán)利要求1所述之連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置,其特征在于,所述回傳機構(gòu)鄰近該前端升降機構(gòu)的一端具設(shè)有一控制感測開關(guān)。
3.如權(quán)利要求1所述之連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置,其特征在于,所述進料基臺、該鍍膜基臺與該出料基臺分別具有一偵測感測開關(guān)。
4.如權(quán)利要求1至3項中任一項所述之連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置,其特征在于,所述前端、后端升降機構(gòu)為一伸縮結(jié)構(gòu),該伸縮結(jié)構(gòu)的頂端設(shè)有一平臺,該平臺的一側(cè)設(shè)有一可雙向運轉(zhuǎn)動力源,各該滾動軸設(shè)于該平臺的頂部。
5.如權(quán)利要求4所述之連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置,其特征在于,所述動力源的輸出軸與該雙向運轉(zhuǎn)動力源的輸出軸分別透過一傳動組件與各該滾軸連接。
6.如權(quán)利要求1所述之連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置,其特征在于,所述支撐件為一鐵氟龍支撐件。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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